第七章 光学零件抛光.ppt

* 第七章 光学零件抛光 一、抛光的目的 二、精磨表面结构对抛光过程的影响 §7.1 抛光机理 1、纯机械作用说 2、流变作用说 3、机械、物理化学学说 4、化学学说 机械作用是基本的，化学作用是重要的，而流变现象是存在的。 §7.2 工艺因素对抛光的影响 抛光机理对抛光粉的要求 抛光液对抛光影响 抛光液的酸度值（PH值） 0.4 0.3 0.2 0.1 3 9 抛光液的酸碱度（PH） 玻璃抛去量, g/h 抛光压力和机床的速度 温度的影响 抛光模材料 精磨表面质量 古典法抛光 弧线摆动法 范成法 §7.3 古典法抛光 一、古典抛光工艺过程 （一）各种工艺因素的考虑 抛光柏油的选择 抛光剂和抛光柏油的匹配 抛光剂的选择 1、抛光过程辅料的选择 2、机床的选择 1—摆轴偏心轮 2——抛光机主轴 3、4——皮带轮 5、6——摩擦轮 7——传动主轴 8——电动机 —铁臂运动轨迹对主轴中心的张角； —铁臂的摆动角 三角架 铁笔 铁臂 3、抛光模 抛光模层材料选择 抛光模的制作 淡些 浓些 淡些 浓些 抛光液 修刮边缘 修刮中部 修刮边缘 修刮中心 抛光模 略轻 略加重 宜轻 略加重 压力 加快 放慢 加快 放慢 摆速 放慢 加快 放慢 加快 主轴转速 拉出来 放中心 放中心 拉出来 铁笔位置 加大 减小 减小 加大 摆幅 多抛中间 多抛边缘 多抛中间 多抛边缘 抛光情况 R由大变小（光圈由低改高） R由小变大（光圈由高改低） R由小变大（光圈由高改低） R由大变小（光圈由低改高） 曲率半径R的变化趋势 高 低 高 低 原光圈情况 凹镜盘在上 凸镜盘在下 镜盘位置 常用的修模图案 §7.4 高速抛光 一、准球心抛光法 古典法抛光 准球心法抛光 准球心凸球模 h′ 一、意义 面形检测 表面质量检测 二、面形检测 接触式检测； 非接触式检测： （一）、接触式检测原理： 暗条纹条纹: 空气薄膜，垂直入射时有： 低光圈条纹 光圈识别： 高光圈 低光圈 （1）微压法 （2）色序判断法 高光圈 低光圈 2、空气导厚度的度量 （1） （1） （1）中心局部偏差 3、局部偏差的识别 （2）边缘局部偏差 低光圈边缘低 低光圈边缘高 * 第七章 光学零件抛光