必威体育精装版反向光刻技术和版图复杂度研究.pdf

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2018-08-16 发布于浙江
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必威体育精装版反向光刻技术和版图复杂度研究

Abstract AstheIC enterstheUDSM of process hasbecomeonethe era,lithographytechnology obstructionsofIC Effectsbecomesmoreandmoreseriousin technology．AsOpticalProximity the ofIC kinds processmanufacturing，semiconductor manufacturingcommunityadoptsmany ofResolutionEnhancement todealwith it．Asa oftraditional Technologies keytechnology ResolutionEnhancement usedin Technology，OpticalProximityCorrection(OPC)is broadly currentIC thecriticaldimensionbecomes manufacturing．Now evensmallerandthe leading manufacturershavebeen at22nmnode．Itbecomesmoreandmoredifficultto working apply OPCinthese Inverse more masks，while complex Lithography forits merits．Atthesame masks promisingunique time，the createdILTareso that by complex are difficultto inactual meyvery bemanufactured limitsthe of production，whichdevelopment ILT． Inthis and termsareintroducedin mask is paper,ILTpenalty detail，while compl