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C、核磁共振与化学位移 nuclear magnetic resonance and chemical shift 2. 化学位移的表示方法 2. 位移的表示方法 3. 影响化学位移的因素 3. 影响化学位移的因素 原子的屏蔽(近程屏蔽) 1950年, Ramsey 提出分子中原子的屏蔽主要包括两项: ? A = ? A D + ? A P 抗磁项 顺磁项 对1 H 而言, 核外电子产生的抗磁性屏蔽在各种屏蔽因素中起主导作用 对于其它核, 13C , 19F, 31P 等, 顺磁项是主要的。 原子序数越大, ? A 也越大, 化学位移范围也越宽。 13C , 19F, 31P 的化学位移比 1 H 大1-2个数量级/ 3. 影响化学位移的因素 3. 影响化学位移的因素 影响化学位移的因素4 氢键效应 小结: D. 自旋偶合与自旋裂分 spin coupling and spin splitting 自旋耦合,自旋分裂:原因 质子与质子之间的关系 对于邻碳磁等价核之间的偶合,其偶合裂分规律如下: 核磁共振谱图: 信息 谱图解析与结构确定 结构确定过程 第二节 核磁共振波谱仪 nuclear magnetic resonance spectrometer 各部分器件说明: 超导核磁共振波谱仪: 2)探头:由样品管、扫描线圈和接收线圈组成。样品管要在磁场中以几十Hz的速率旋转,使磁场的不均匀平均化。扫描线圈与接收线圈垂直放置,以防相互干扰。在CW-NMR中,扫描线圈提供10-5T的磁场变化来进行磁场扫描。 3)射频源:类似于激发源。为提高分辨率,频率波动应小于10-8,输出功率(小于1W)波动应小于1%。 4) 信号检测及信号处理。 材料结构表征及应用 1.屏蔽作用与化学位移 理想化的、裸露的氢核;满足共振条件: ?0 = ? B0 / (2? ) 产生单一的吸收峰; 实际上,氢核受周围不断运动着的电子影响。在外磁场作用下,运动着的电子产生相对于外磁场方向的感应磁场,起到屏蔽作用,使氢核实际受到的外磁场作用减小: B=(1- ? )B0 ?:屏蔽常数。 ? 越大,屏蔽效应越大。 ?0 = [? / (2? ) ](1- ? )B0 屏蔽的存在,共振需更强的外磁场(相对于裸露的氢核)。 各种氢核 周围的电子云密度不同(结构中不同位置)共振频率有差异,即引起共振吸收峰的位移,这种现象称为化学位移。 2. 化学位移的表示方法 没有完全裸露的氢核,没有绝对的标准。 相对标准:四甲基硅烷 Si(CH3)4 (TMS) (内标) 位移常数 ?TMS=0 (2) 为什么用TMS作为基准? a. 12个氢处于完全相同的化学环境,只产生一个尖峰; b.屏蔽强烈,位移最大。与有机化合物中的质子峰不重迭; c.化学惰性;易溶于有机溶剂;沸点低,易回收。 与裸露的氢核相比,TMS的化学位移最大,但规定 ?TMS=0,其他种类氢核的位移为负值,负号不加。 = [( ?样 - ?TMS) / ?0 ] 106 (ppm) ? 无量纲,对于给定的质子峰,其值与射频辐射无关。 ?小,屏蔽强? (sigma),共振需要的磁场强度大,在高场出现,图右侧; ?大,屏蔽弱?,共振需要的磁场强度小,在低场出现,图左侧; 每种核的化学位移就是该磁核在分子中的化学环境的反映. 从前式 可知,凡是影响屏蔽常数?(电子云密度)的因素均可影响化学位移,即影响NMR吸收峰的位置。 ? = ? A + ? M+ ?’ 核屏蔽 原子的屏蔽 分子的屏蔽 抗磁屏蔽: 以S电子为主 ( 1H) 顺磁屏蔽: 以P电子为主( 13C 19F 31P) 分子内屏蔽 分子间屏蔽 诱导效应 共轭效应 磁各向异性效应 氢键 范德华 顺磁 顺磁 氢键 介质磁化率 溶剂效应 1954 年Saika 和 Slichter 远程屏蔽 1)诱导效应(Induction):分子与高电负性基团相连----分子电子云密度下降(去屏蔽)---?下降---产生共振所需磁场强度小---吸收峰向低场移动; -CH3 , ? =1.6~2.0,高场; -CH2I, ? =3.0 ~ 3.5, 低场 例子: -O-H,
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