第一章 光电检测技术概论.ppt

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第一章 光电检测技术概论

* 光?? 伏 ? 效?? 应 以下以P-N结为例说明, 光照时结电压变化。 * * P-N结的形成: 在P、N区交界面因载流子的浓度差,故彼此向对方扩散。在N区的电子为多子,在P区的电子为少子,使电子由N区流入P区,这样在N区的结面附近形成正的空间电荷。同样,空穴由P区扩散到N区后,形成负的空间电荷。在P区与N区界面两侧,形成内电场(也称耗尽区、空间电荷区、阻挡层),此电场对两区多子的扩散有抵制作用,而对少子的漂移有帮助作用,直到扩散流等于漂移流时达到平衡,在界面两侧建立起稳定的内建电场。 * P-N结能带图 热平衡下P-N结模型及能带图 * P-N结能带图 在热平衡条件下,结区有统一的EF,在远离结区的部位,EC、EF、Eν之间的关系与结形成前状态相同。从能带图看,N型、P型半导体单独存在时,EFN与EFP有一定差值。当N型与P型两者紧密接触时,产生内建电场,内建电场方向为从N区指向P区。 * 接触电势差UD 在内建电场作用下,EFN将连同整个N区能带一起下移,EFP将连同整个P区能带一起上移,直至将费米能级拉平为EFN=EFP。在结区这时导带与价带则发生相应的弯曲,形成势垒。势垒高度等于N型、P型半导体单独存在时费米能级之差: * 接触电势差UD qUD=EFN-EFP UD=(EFN-EFP)/q q:电子电量 UD:接触电势差或内建电势 * 光照下的P-N结 N区 P区 光照下光电流的产生动态图 当P-N结受光照时,P区产生的光生空穴,N区产生的光生电子属多子,都被势垒阻挡而不能过结。只有P区的光生电子和N区的光生空穴和结区的电子空穴对(少子)扩散到结电场附近时能在内建电场作用下漂移过结。光生电子被拉向N区,光生空穴被拉向P区。 * 光生电势差 光照导致在N区边界有光生电子积累,在P区边界有光生空穴积累。它们产生一个与热平衡P-N结的内建电场方向相反的光生电场。此电场使势垒降低,其减小量即光生电势差。 N区 P区 * 光电导效应 光照变化引起半导体电导变化称光电导效应。当光照时,材料吸收光子的能量,引起载流子浓度增大,因而导致材料电导率增大。 本征半导体光电导效应图 * 光电发射效应 金属或半导体受光照时,如果入射的光子能量hν足够大,光子能量转换成电子能量,使电子从材料表面逸出的现象称光电发射效应也称为外光电效应。它是真空光电器件光电阴极的物理基础。 外光电效应的两个基本定律 1.斯托列托夫定律 2.爱因斯坦定律 光电发射定律解释图 * 1.光电发射第一定律——斯托列托夫定律: 当照射到光阴极上的入射光频率或频谱成分不变时,饱和光电流(即单位时间内发射的光电子数目)与入射光强度成正比: ???????? Ik=SkFk Ik:光电流 Sk:该阴极对入射光线的灵敏度 Fk:光强 * 2.光电发射第二定律——爱因斯坦定律 光电子的最大动能与入射光的频率成正比,而与入射光强度无关: Emax=(1/2)mυ2max=hν- hν0=hν- A Emax:光电子的最大初动能。 h:普朗克常数。 ν0:产生光电发射的极限频率,频率阈值。 A:金属电子的逸出功(从材料表面逸出时所需的最低能量),单位eV,与材料有关的常数,也称功函数。 * 入射光子的能量至少要等于逸出功时,才能发生光电发射。 波长阈值: ???????? λ0=C/ν0≤hc/A=1.24/A(μm) 当入射光波长大于λ0时,不论光强如何,以及照射时间多长,都不会有光电子产生。 * 第一讲 光电检测技术概论 光电测试技术解决的测量问题(必要性、重要性) 光电测试系统组成 光电测试发展趋势 光电检测技术(一) * 学习的必要性、重要性 勇气号-九只眼 * 勇气号-九只眼 ☆其中六只用于导航:前后两端各安装 了两组相同的立体黑白避险摄像机; 在桅杆的顶端,安装了两部立体黑白 导航摄像机。 ★三只用于科学探测:桅杆顶部安装了一台全景彩色立体摄像机,用于科学观测,安装了另一台显微影像仪,用于观测矿物的结构;再加上微型热辐射分光仪及α粒子与X射线光谱仪,这样“勇气”号就可以分析火星水分及土壤成分。 * 金字塔漫游者 拥有五大法宝: 1.超声波传感器:可用来测量岩石厚度。 2.微波传感器:通过探测电磁波穿透岩石的速度,测算出岩

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