- 1、本文档共47页,可阅读全部内容。
- 2、有哪些信誉好的足球投注网站(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
最小接近距离 式中,k是取决于光刻胶处理工艺的常数,典型值接近1。可以计算,对20微米的间隙,曝光波长为436nm时,用接近式光刻可以实现的最小特征尺寸是3.0微米。 投影光刻机的最小接近距离还与光刻胶的处理工艺有关。通常,当特征尺寸为Wmin时,对波长为?的光,最小接近距离g满足: 6. 投影光刻机 投影光刻机可以得到接触式光刻机的高分辨率,又不会损坏版子和图形。投影机的常用类型有:扫描机、分步重复机和扫描分步重复机。 从图可见,在光刻版和圆片间增加了投影器(物镜),其作用是把透过光刻版后的衍射光重新聚焦到圆片上,消除因衍射引起的图形失真。投影机的重要性能指标用参数数值孔径表示,对接收半角为? 的物镜(n为空气折射率),定义为: 对用于IC生产的投影机,接近理想的光学系统,没有色差、畸变,这时,其分辨率可用瑞利判据确定: 可见,系统的数值孔径越大,其分辨率越高,波长越短,分辨率越高。k是由光刻胶性能决定的常数,其值约0.75。对NA为0.6的系统和365nm的光,投影机最小可分辨0.46微米的图形。为了获得高的分辨率,必须提高系统的数值孔径。 投影机的分辨率 * * 微电子工艺原理与技术 ( 09研究生) 第七章 光学光刻 第三篇 单项工艺2 主要内容 概述; 2. 衍射; 3. 调制传输函数和光学曝光; 接触式/接近式光刻机; 投影光刻机 6. 表面反射和驻波; 7. 对准。 1. 概述 光刻是在光的作用下,利用光刻胶过渡,将图象从母版向另一种介质转移的过程。母版即为光刻版,一种由透光区和不透光区组成的玻璃版。光线通常用近紫外(波长约436nm)、远紫外(波长约365nm, 290nm)、X-射线(波长约0.5-5nm)和电子束(束点小于100nm)。 光刻三要素:光刻胶、掩膜版和光刻机 利用紫外光曝光的光刻技术为光学光刻,利用电子束、离子束等曝光的光刻技术称为非光学光刻。 光刻版根据器件功能的要求,按不同制造工艺的版图设计规则设计制造。对每一层版图,版图设计将决定其允许的最小特征尺寸、允许的最小间隔、该层图形与其它层图形的最小覆盖、与它下层图形的最小间隔等要求。为完成器件工艺流片,铝栅CMOS器件需要8块光刻版,硅栅CMOS 10块光刻版。对有特殊功能的器件,其光刻次数可达15次以上。BiCMOS工艺可以多到28块光刻版。光刻的工艺成本在整套IC工艺中占1/3 以上。 集成电路的设计过程: 设计创意 + 仿真验证 集成电路芯片设计过程框架 是 功能要求 行为设计(VHDL) 行为仿真 综合、优化——网表 时序仿真 布局布线——版图 后仿真 否 是 否 否 是 Sing off IC设计流程 芯片制造过程 集成电路的内部单元(俯视图) 光刻版版图示意 对光刻版的质量要求 光刻版制作在不同类型石英玻璃上,用铬膜作不透光区。对制作光刻版的石英玻璃,要求有良好的光学性能: 曝光波长下的高透光度; 小的热膨胀系数; 整个表面具有很好的平整性,以降低光的散射。 对制版过程中图形的正确性应该用与数据库的比对来确认,铬膜的缺陷需要精心修正,残留疵点可用激光烧除,针孔用额外沉积补救。这是十分重要的、保证成品率的关键工作。 在流片前,工艺人员应当认真检查,比对、确认,只有正确无误时才开始流片。 光刻工艺 一次光刻包含在圆片上的涂胶、光刻版图形与圆片上前次图形的对准、紫外光对光刻胶曝光在圆片表面产生掩模图形、光刻胶对紫外光的吸收和反应、显影、坚膜、介质刻蚀。 光刻机的性能度量标准 1. 分辨率 即可以曝光出来的最小特征尺寸。对确定的光刻机(对准机),分辨率不是一个固定数,取决于光刻胶依据实像重建图形的能力。正胶可以得到较好的分辨率,减薄光刻胶的厚度也可提高分辨率。为了实用,分辨率通常表达为可分辨的、且能保持一定尺寸容差的最小特征尺寸。典型值是取线宽分布三倍标准偏差不超过线宽的10%。 2. 对准 光刻机的对准是指层间套刻的对准精度。它取决于多种因素,例如对准记号的设计、圆片表面介质薄膜的性质、机器对对准记号的精确定位能力等。IC生产线上往往采用自动对准系统,而手动对准系统还主要取决于操作人员的能力。 3. 产量 为了提高效率,光刻机的流片能力是重要的性能指标。对常规的IC生产,必须全面地度量上述性能,兼顾各项指标。例如,对电子束系统,它有很高的分辨率,但产量很低,如每小时一片,除非特殊需要,就不可能成为常规光刻机。对VLSI技术,分辨率
您可能关注的文档
- 仪表、仪态、语言等礼仪.ppt
- 移动通信-噪声与干扰.ppt
- 移动通信原理与系统 第4章 抗衰落和链路性能增强技术.ppt
- 医学英语翻译专题-翻译的等效性和灵活性.ppt
- 医学细胞生物学 细胞膜Cell Membrane-英文版.ppt
- 医学物理学 同步辐射原理与医学应用之一 同步辐射原理、特性与应用.ppt
- 药剂学(第七版) 第十二章 药物制剂稳定性.ppt
- 药剂学(第七版) 第七章 气雾剂喷雾剂与粉雾剂.ppt
- 药剂学(第七版) 第四章 固体制剂-1(散剂、颗粒剂、片剂).ppt
- 药剂学(第七版) 第三章 灭菌制剂与无菌制剂.ppt
- 5.3.1函数的单调性(教学课件)--高中数学人教A版(2019)选择性必修第二册.pptx
- 部编版道德与法治2024三年级上册 《科技提升国力》PPT课件.pptx
- 2.7.2 抛物线的几何性质(教学课件)-高中数学人教B版(2019)选择性必修第一册.pptx
- 人教部编统编版小学六年级上册道德与法治9 知法守法 依法维权(第一课时)课件.pptx
- 三年级上册品德道德与法治《学习伴我成长》.pptx
- 部编版小学道德与法治六年级上册6 人大代表为人民 课件.pptx
- 部编版小学道德与法治六年级上册1感受生活中的法律第一课时课件.pptx
- 2.5.2圆与圆的位置关系(教学课件)-高中数学人教A版(2019)选择性必修第一册.pptx
- 2.5.1直线与圆的位置关系-(教学课件)--高中数学人教A版(2019)选择性必修第一册.pptx
- 14.1.1 同底数幂的乘法(教学课件)-初中数学人教版八年级上册.pptx
文档评论(0)