Nicu膜制备及光学性质研究.docVIP

2011届 　分 类 号: 　　　　　　　　　　　　　　　　　 单位代码: XXX理学院 毕业论文（设计） Ni-cu膜的制备及光学性质的研究 　　　　　　 姓 名　 　　　 　　　　　 　　　　　　 学 号　　　ABSTRACT The measurement of the basic principle is a polarization of light through the orientation of the 1/ 4 after wave of a particular sphere of the polarization of light ,and put it on to the surface of the test samples of reflections line will be polarization. According to the polarization of light at the back of the state changes(including amplitude and phase change), it can determine the samples. Keywords：Partial method；Membrane of Ni-Cu；Vacuum coating 目 录 1 引言………………………………………………………………………… … …5 1.1真空镀膜技术………………………………………………………… …..…5 1.1.1真空镀膜技术…………………………………………………. . ………5 1.1.2常用的真空镀膜技术简介……………………………… … ……….5 1.1.3真空蒸发镀膜技术中真空度对蒸发的影响…………… … ……...5 1.1.4真空蒸发镀膜中应注意的几个问题……………………… …….……..7 1.2薄膜材料………………………………………………………… … ………薄膜材料……………………………………………… ….………..7 1.2.2薄膜的应用……………………………………………… …………..8 1.3 椭偏法………………………………………………………… …………...8 1.3.1椭偏法的简单介绍……………………………………… …………...8 1.3.2椭偏法的基本原理……………………………………… ……..…….8 1.3.3椭偏法的发展与应用…………………………………… ……………9 2 实验………………………………………………………………… …..………9 2.1实验原理……………………………………………………………...…….9 2.1.1椭偏法基本原理………………………………………………...…….9 2.1.2光度法的基本理论…………………………………………………..11 2.2实验装置…………………………………………………………………..13 2.3薄膜样品制备过程………………………………………………………..13 2.4实验内容…………………………………………………………………..14 2.5实验结果与分析…………………………………………………………..14 3 小结………………………………………………………………………..…..17 参考文献………………………………………………………………………………………. 18 致谢……………………………………………………………………………….19 1 引言 1.1真空镀膜技术 1.1.1真空镀膜技术 早在一个多世纪以前，人们从辉光放电管壁上就观察到了溅射的金属薄膜。根据这一现象，后来逐步发展起真空镀膜的方法。真空镀膜技术，在现代工业和科学方面有着广泛的应用。例如，光学仪器上的各种反射膜，增透膜，滤光片等，都是真空镀膜的产物；电子器件中用的薄膜电阻，特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造；硬质保护膜可使各种经常磨损的器件表面硬化，大大增强耐磨程度；磁性薄膜具有记忆功能，在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位……。因此，真空镀膜技术目前正在向各个重要的科学领域中延伸，引起了人们广泛的注意[1]。 1.1.2常用的真空镀膜技术简介 真空镀膜中常用的方法是真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在一定真空度下，把要蒸发的材料加热到一定温度，使大量分子或原子蒸发和升华，并直接淀积在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下高速轰击作为阴极的靶，使靶材中的分子或原子逸出而淀积到被镀工件的表面，形成所需要的薄膜。 真空蒸发镀膜最常用的是电阻加热法。其优