光刻词汇.doc

ABC参量 see莳萝参量 Aberrations，透镜dnt一个光学系统(透镜)的真正的表现的/dntAny偏差从它理想的(傅立叶光学)表现。 透镜变型的例子包括昏迷、球差、领域曲度、散光、畸变和色象差。 一种方式描述透镜变型是通过Zernike多项式适合对波前错误在透镜的出射光孔每领域点的。 Example ： 物端透镜的变型导致了引人注目的退化进入图象质量。 Absorption系数dnt在光游遍材料的强度的/dntThe分数减退每个单位距离移动了。 see消光系数 Example ： ArF的吸收系数抵抗很高可能使用抵抗的仅薄膜。 摧化的酸抵抗 A类型的化工放大抵抗酸是曝光和这酸产品起催化剂作用对于改变抵抗的可溶性的热量反应的地方。 dnt化工被放大的/dntsee抵抗 Example ： 摧化的酸抵抗是最共同的类型为深紫外石版印刷抵抗。 Activation能量dnt由它的角色的/dntDefined在Arrhenius等式，活化能确定化学反应率常数、扩散性能和其他温度依赖率期限温度依赖性。 高活化能导致大温度依赖性。 Example ： 这低活化能抵抗将开始它的酸摧化的解块的反应在室温。 光化波长dnt被用于的/dntThe波长暴露在一个平版印刷的系统的光致抗蚀剂。 Example ： 基体的折射率的测量在光化波长的是必要为了设计优选的BARC。 Adhesion促进者dnt被申请于薄酥饼表面为了改进黏附力的/dntA化学制品抵抗对薄酥饼，经常通过消灭水从薄酥饼表面。 Example ： HMDS，使用作为附着力促进剂，使用蒸气最初单位是应用的。 先进程序控制(APC)dnt对自动化的反馈和前馈圈的/dntThe用途控制一个平版印刷的过程。 Example ： 重做率和行尾出产量在打开覆盖物APC系统以后被改进了。 Aerial图象dnt被射出在光致抗蚀剂上掩模图案的/dntAn图象由一个光学系统涂上了薄酥饼。 Example ： 发现被隔绝的线的空中图象与那密集的线极大不同。 Aligner see面具直线对准器 Alignmentdnt安置一个特殊观点的图象/dntThe行动在光掩膜(对准线钥匙)对在(对准线目标)的一个特殊观点将打印的薄酥饼。 对准线准确性是覆盖物被测量在这个对准线目标。 Example ： 对准线系统步进使用了一种先进的图象公认算法 对准线钥匙dnt在被用于的光掩膜的/dntThe样式进行对准线。 Example ： 这个面具有几把对准线钥匙为在几不同的steppers的使用。 Alignment标记 see对准线钥匙或对准线目标 Alignment目标dnt在被用于的薄酥饼的/dntThe样式进行对准线。 Example ： mesa结构使用作为对准线目标为这个设备的门水平。 Alternating PSMdnt对一条小镀铬物线的一边的清楚的区域在阶段被转移由180移相位面具的/dntA类型？与清楚的区域比较与那条同样线的另一边。 并且叫的交替的开口PSM或Levenson PSM。 Example ： 虽然交替的PSM许诺极端决议和好景深，阶段相冲突极限他们的一般电路样式的用途。 环型照明dnt光油炸圈饼形off-axis照明的/dntA类型(环型)圆环使用作为来源。 Example ： 发现使用环型照明给引人注目的改善详细这些特点的焦点。 Antireflective涂层dnt在上面被安置或在层数抵抗之下减少光的反射，并且的/dntA涂层，减少定波或薄膜干涉的恶劣效果。 dnt也/dntsee顶面Antireflective涂层和底下Antireflective涂层 Example ： 通过优选antireflective涂层的厚度，摇摆曲线高度减少了到几乎零。 APC see先进程序控制 Aperture，数字 see数值口径 Aperture中止 see学生，透镜 ArF Argon氟化物，用于大约散发光在193nm的光学制版的激态原子激光的类型。 Example ： 由于在导致钙氟化物透镜组分， ArF曝光工具的困难是相当地更加昂贵的制造。 Arrhenius系数dnt由它的角色的/dntDefined在Arrhenius等式， Arrhenius系数是在定义了化学反应率常数、扩散性能和其他温度依赖率期限温度依赖性的等式的前指数期限。 例子： Arrhenius系数经常被重视作为温度依赖率的推测恒定对一无限地高温。 Arrhenius等式 The化学反应率常数、扩散性能和其他温度依赖率期限温度依赖性作为与绝对温度反面的一个指数关系。 Example ： Arrhenius等式被用于确定反应率