光学镀膜基础知识Eversion.ppt

* PVD顧名思義是以物理機制來進行薄膜堆積而不涉及化學反應的製程技術，所謂物理機制是物質的相變化現象 PVD製程皆在真空下進行, * * 一般而言，鍍膜在真空鍍膜機內以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度 進行 (1 Torr = 1 公厘水銀柱高的壓力，大氣壓為 760 Torr)。其鍍膜 膜厚約為 0.1 ~ 0.2 微米。　　如果鍍膜在特定厚度以下時（即太薄），面漆對底漆將會產生 侵蝕、引起化學變化（如表面霧化等）。如鍍膜過厚時，會產生白 化的狀態。　　關於鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源 (鎢絲) 加熱， 然後把掛在鎢絲上的鋁片或鋁線熔解。鋁材從而蒸發、飛散到各方 面並附著於被鍍件上。熔解的鋁為鋁原子，以不定形或液體狀態存在並附著於被鍍件上，經冷卻結晶後從而變為鋁薄膜。　　因此設定鎢絲為定數時，由真空度至蒸發鋁的飛散方向、鎢絲的溫度，鎢絲到被鍍件的距離等；依其鍍膜條件，鍍膜的性能也除著改變而發生變化。　　一如前述，鍍膜在10 –4 Torr左右下進行，如真空度過低時，其蒸發中的鋁遇到殘留的氣體或者碰著鎢絲被加熱時產生的氣體，發生衝突而冷卻，形成的鋁粒 (非常小的鋁粒子集合體) 會附著于被鍍膜件上。此時所形成的鍍膜因微細鋁粒中可能仍含有殘留氣體而令其失去光澤，也會大大降低鍍膜與底油的密著性。　　如真空度高，而且鎢絲的溫度亦高時，蒸發鋁的運動能量也因此會提高，被鍍膜件表面所附著的會是純鋁 (並沒有殘留氣體)，而且密度非常高，鍍膜性能因此而得到提升 (包括密著性等)。 * 電漿(Plasma)是一種遭受部份離子化的氣體(Partially lonized Gases)。藉著在兩個相對應的金屬電極板(Electrodes)上施以電壓，假如電極板間的氣體分子濃度在某一特定的區間，電極板表面因離子轟擊(Ion Bombardment)所產生的二次電子(Secondary Electrons)，在電極板所提供的電場下，將獲得足夠的能量，而與電極板間的氣體分子因撞擊而進行所謂的”解離(Dissociation)”，”離子化(Ionization)”，及”激發(Excitation)”等反應，而產生離子、原子、原子團(Radicals)，及更多的電子，以維持電漿內各粒子間的濃度平衡。 * 日常生活中的電漿1.日常生活中最常見的日光燈，就是電漿的應用！當我們開燈時，點燈器會產生極高的電壓，並產生電漿粒子，這些電漿粒子會轟擊燈管中的水銀蒸氣、螢光物質，而使其發光。五顏六色的霓虹燈也是相同原理。 2.富士通（Fujitsu）於1993年發表的電漿顯示器（Plasma Display Pannel），其基本顯像原理：由前、後二塊玻璃基板夾成，玻璃上附有透明電極、誘電層、保護層、紅綠藍三色螢光體等結構。這二塊玻璃基板中間的間隙只有0.1mm，而在這0.1mm空間中填充了一種氣體。當施加電壓於電極上時，電極會放電而產生紫外線光。而當紫外線光打擊到玻璃基板上的紅、綠、藍螢光物質時，這些螢光物質就會產生紅、綠、藍三原色，這些紅綠藍三原色最後就合成各種彩色影像。  * The Comparism Of Single Zns Film And Five Films G/2LHLHL/Airg-K9 ; L-MgF2; H-Zns * The Polarization of Beam-splitting Plates * The Polarization of Beam-splitting Prisms * The curve of Al film on 1、2、4、8、16、32、64、128nm 金Reflective Film * Metal Reflection Medium * Things To Consider On Chosing Metal Materials Wavelength Reflection Environment Cost Al: Commonly applied in UV, Visible and Infrared ranges Ag: High reflection, poor stability Au: Commonly applied in Infrared range, stable Pt, Rh：Stable and firm * Comparism On Spectrum Of Ag Film, Al Film, and Al+lhlh Film * Filters * Interference Filters * Band Pass Filters λ0——Peak Wavelength Tmax——Peak Transmission