Design Cmpier使用笔记DC中文笔记.doc

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Design Cmpier使用笔记DC中文笔记

HYPERLINK /members/wawu/feed.rss /members/wawu/feed.rss DC的手册包括3部分,分别是命令行手册,User Guide,以及参考手册。 其中参考手册有3个,分别是: Constraints Timing Optimization Timing Analysis Register Retiming 本系列笔记为阅读这三个参考手册所做的笔记 HYPERLINK /members/wawu/Blog/cns!1pxKKvW5BqL9JYaDLmctd5HA!117.entry Notes for DC Reference Manual: Constraints Timing, No.1 本文档(约束和时序)包括六章: 1. 基本概念 2. 约束设计 3. 描述设计环境 4. 指定时钟和时钟网络 5. 描述逻辑功能和信号端口 6. 在层次化设计中传播约束 HYPERLINK /members/wawu/Blog/cns!1pxKKvW5BqL9JYaDLmctd5HA!118.entry Notes for DC Reference Manual: Constraints Timing, No.2 基本概念篇: 利用DC进行综合,主要的过程就是设定适当的约束,从而指导DC综合出较为优化的结果,DC当中进行综合可以分成三大步骤:Transfer、Mapping、Optimization。 总的流程来说为: 设定各种用于综合的库(.db或者.lib格式) 这些库包括标准单元库、I/O库、Memory Compiler生成的Memory/Regfile的.lib库以 及各种IP核的库。库中主要描述了库线负载模型、Max_transition、Max_Capacitance 等等;各种单元的时延、面积、逻辑功能、输入输出负载、功耗等等,注意,具有相 同footprint的单元是可以互相替换的。 读入设计 此时可以对设计设定参数(Verilog当中的parameter,VHDL当中的generic)。设计读 入以后将会被转换(Transfer)成网表,该网表是基于一种通用库的,即gtech库(Generic Technology),该库可以较为容易的映射到各种实际的工艺库当中,当然,这个库是没 有时延的。 设定约束 DC的约束总体分成两类:Design Rule Constraints以及Optimization Constraints。前者 是必须要满足的,包括工艺库当中进行的各种限定,而后者是为了优化而设定的。总 的说来,约束包括面积,时序,负载,Porosity,动态/漏功耗(使用Power Compiler )等几大类。 4. 约束设定好之后,就可以让DC根据这些约束将通用库的网表映射(Mapping)到实际 的库当中去,并进行各种的优化(Optimization),此时就可以得到结果的网表,用于后 端的布局布线。 5. DFT的流程可以在步骤3中完成,也可以在网表settle之后。DFT的流程包括扫描链 插入以及ATPG等。 6. 最后就是生成门级的网表(.v)、导出约束文件(.sdc,用于指导后面的布局布线)、时 延文件(.sdf,用于静态时序分析STA),当然还要包含功耗、面积、时序的报告之类的。 综合产生的结果(门级的网表)的评价指标应该包括速度、面积、功耗、Porosity(不知如何翻译,这个指标代表结果布局布线的布通的能力),当然,在做完DFT ATPG之后,还要保障一定的覆盖率,最后,我们还希望花较短的时间和计算资源就达到时序收敛。综合软件将利用我们给出的各种约束的指导进行综合,然而上述5个目标并不能同时满足,甚至很多时候会互相矛盾,例如速度和面积一般来说是互相矛盾的,所以这些目标必须要有一个优先级,只有较高优先级的目标有一定的Slack的时候才考虑对较低优先级的目标进行优化。我们的设计往往要求速度为第一目标,覆盖率也必须达到量产要求(例如90%以上),而面积、功耗、Porosity等则是可以容忍的。 HYPERLINK /members/wawu/Blog/cns!1pxKKvW5BqL9JYaDLmctd5HA!119.entry Notes for DC Reference Manual: Constraints Timing, No.2 (contd) 约束的分类: 约束总的分成两类:Design Rule Constraints和Optimization Constraints,其中前者是隐式约束(Implicit),后者是显式约束(Explicit)。前者由定义工艺库定义,多个工艺库定义值不同的时候取最严格者,而后者是用户定义的,前

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