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TFT-LCD设计及制作—TFT原理
TFT-LCD设计及制作(2)
■ TFT工作原理
■ TFT基本结构
■ 各种TFT技术
■TFT工作原理
■TFT基本结构
■各种TFT技术
TFT-LCD设计及制作
2
MOSFET
绝缘栅型场效应管(Insulated Gate Field
Effect Transistor ,缩写为IGFET)
的栅极与源极、栅极与漏极之间均采用Si0 绝
2
缘层隔离,因此而得名。
在IGFET中,目前应用最为广泛的是MOS场
效应管(即金属-氧化物-半导体场效应
管:Metal-Oxide-Semiconductor-Field-Effect-
Transistor,缩写为MOSFET)
TFT-LCD设计及制作
3
MOS结构是MIS (Metal-Insulator-
Semiconductor)结构中的一种,当绝缘膜采
用氧化膜时就是MOS结构,在硅器件中,氧化
膜是通过硅衬底的热氧化形成的。
它的栅-源间电阻比结型场效应管大得多,可
达1010Ω以上。它比结型场效应管温度稳定性
好、集成化时工艺简单,是微处理器、半导体
存储器等超大规模集成电路中的核心器件和主
流器件,也是一种重要的功率器件。
TFT-LCD设计及制作
4
根据导电方式的不同,MOSFET又分增强型、
耗尽型。
所谓增强型是指:当VGS=0时漏极电流也为零,
管子是呈截止状态;加上正确的VGS后,多数
载流子被吸引到栅极,从而“增强”了该区域
的载流子,形成导电沟道。因而增强型
MOSFET就是指必须施加栅压才能开启的一类
MOFET 。
TFT-LCD设计及制作
5
耗尽型则是指:当VGS =0时漏极电流不为零,
即形成沟道;加上正确VGS的时,能使多数载
流子流出沟道,从而“耗尽”了载流子,使管
子转向截止。因而耗尽型MOSFET是指必须施
加栅压才能关闭的一类MOSFET 。
TFT-LCD设计及制作
6
TFT 与MOSFET 之比较分析
TFT 与MO SFET 的工作原理比较
TFT 与MOSFET的工作原理相似, 当栅极施加
正电压时, 在栅极和半导体层间会产生一个电
场,在这个电场的作用下, 形成了电子沟道, 使源
极与漏极之间形成导通状态, 在栅极所加的电
压越大, 吸引的电子也愈多, 所以导通电流也越
大; 而当栅极施加负电压时, 使得源极与漏极之
间形成关闭状态。
TFT-LCD设计及制作
7
在实际LCD生产中,主要利用a-Si :H TFT的
开态(大于开启电压)对像素电容快速充电,
利用关态来保持像素电容的电压,从而实现快
速响应和良好存储的统一。
TFT-LCD设计及制作
8
TFT 与MOSFET 的结构非常的相似。
TFT
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