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光刻机离轴对准系统 专利分析报告 （精炼版） 计划财务局 国家科学图书馆 2012 年1 月 光刻机离轴对准系统 专利分析报告 承担单位：国家科学图书馆总馆 撰写人员：赵亚娟 王学昭 张 静 王玉婷 张立佳 李 慧 致谢：感谢计划局知识产权处吕连清处长、甘泉副研究员 的指导和帮助。感谢高技术局信息技术处李才兴处长的支 持与指导。感谢光电院齐月静副研究员、吴晓斌副研究员、 韩晓泉副研究员、刘广义副研究员、苏佳妮副研究员等在 需求沟通、专利文献判读与报告修改中提供的宝贵意见！ 摘 要1 对准技术是光刻机的关键技术之一，其性能指标直接影响光刻机 的整机性能，进而决定集成集成电路的复杂度。报告以光刻机离轴对 准系统为研究对象，遵循由面入点，由浅到深，从宏观到微观的分析 思路，将定性调研、定量分析及专家咨询相结合，利用DII （Derwent 2 Innovation Index ）数据库和TI （Thomson Innovation ）平台数据，借 助于EXCEL ，TDA （Thomson Data Analyzer ），Aureka ，TI 等数据处 理工具，对光刻机离轴系统及其五个子技术方向进行国际专利申请与 保护态势分析。分析内容包括申请授权布局、申请人布局、技术垄断 程度、研发人才聚集分布、技术保护区域、重要技术发展路线等方面。 并结合我国的研发实际，对我国在该领域面临的潜在知识产权风险进 行了揭示，针对我国开展相关研究的布局策略给出了建议。以期客观 展现光刻机离轴对准及其重点技术的专利保护现状，为我国在该领域 的科技决策与研发工作提供支撑。 关键词：光刻机离轴对准 专利分析 技术研发布局策略 1 本报告是《光刻机离轴对准系统专利分析报告》的精炼版。 2 DII 和TI 数据库收录了世界40 多个专利受理机构的专利文献，因此，报告的数据采集具有普遍代表性。 目 录 1 离轴对准系统宏观技术保护态势分析 1 1.1 国际专利申请量年度趋势3 1.2 主要专利受理国家/地区分布4 1.3 中国申请和受理布局5 1.4 重要专利申请人6 1.5 技术研发热点7 2 中国研发布局策略探讨8 2.1 国际申请授权布局概览8 2.2 标志性技术发展脉络分析 13 2.3 研发人才相对聚集状态 15 2.4 我国在离轴对准方面的研发布局策略探讨 16 3 启示25 1 离轴对准系统宏观技术保护态势分析 光刻机是集成电路制造业发展的核心设备，对准系统是光刻机的 核心组成之一，其性能指标直接影响光刻机的整机性能，进而决定了 集成电路的复杂度。报告基于专家咨询和用户需求，从“对准系统核 心元件”、“对准标记”、“对准方法”、“对准信息处理”和“系统集成” 五个子技术方向开展光刻机离轴对准系统（技术构成图）国内外知识 产权分析，离轴对准系统技术构成见图1。 图1 光刻机离轴对准系统技术构成图 本报告试图通过专利分析回答如下问题：  光刻机离轴对准领域的国际总体研究态势是什么？  光刻机离轴对准的核心技术有哪些？掌握在谁手中？  光刻机离轴对准领域都涉及到哪些技术方向？各技术方向的 核心技术来自哪个国家，流向了哪些国家？  围绕提高光刻机对准精度的技术发展路线如何，关键技术节 点有哪些？  光刻机离轴对准方法相关的技术发展路线如何，关键技术节 点有哪些？  光刻机离轴对准系统相关技术点垄断情况如何？  光刻机离轴对准系统的研发人才集中在