《硒对高温胁迫下西瓜幼苗叶片光合特性和抗氧化系统的影响》-毕业论文.docVIP

PAGE PAGE 8 硒对高温胁迫下西瓜幼苗叶片光合特性和抗氧化系统的影响 （安徽农业大学园艺学院，合肥，230036） 摘要：采用盆栽试验，将西瓜品种‘早佳（8424）’和‘京欣二号’栽培于硒浓度分别为0.3、0.6、0.9、1.2 mg·kg-1的基质中，待西瓜幼苗长到三叶一心时，移至培养箱对其进行45℃的高温处理24h,然后测定相关生理指标，研究高温胁迫下硒对西瓜幼苗叶片光合特性及抗氧化系统的影响。结果表明：施硒提高了高温胁迫下西瓜叶片叶绿素含量，提高了叶片净光合速率(Pn)，同时降低了叶片的相对电导率。当施硒量为0.6mg·kg-1时，早佳8424和京欣2号的谷胱甘肽过氧化物酶（GPX）活性分别提高了8.5和5.2倍，早佳8424的过氧化物酶（POD）活性比对照提高了52.8%。当施硒量为1.2 mg·kg-1时，京欣2号的丙二醛（MDA）含量比未施硒降低了35.8%。由此可见，硒对高温胁迫下的西瓜幼苗叶片的光合作用及抗氧化系统有一定的调节作用，增强其抗逆性。 关键词：硒；高温胁迫；光合特性；抗氧化酶 引言 西瓜秋延迟栽培的播种期一般在7月份左右，可以使西瓜在中秋、国庆节左右上市，满足市场需求，经济效益高。但秋延后栽培高温伤害是限制西瓜延后栽培的主要因子之一[1]。高温逆境对植物的伤害与活性氧(ROS)大量积累及由此引起的膜脂过氧化伤害有密切关系[2]。植物在高温胁迫下会发生膜脂过氧化，产生丙二醛（MDA）。过氧化物酶（POD）和谷胱甘肽过氧化物酶（GPX）是植物对膜脂过氧化酶促防御系统中重要的保护酶，可有效阻止活性氧的积累，防止膜脂过氧化，缓解高温胁迫对植物幼苗的伤害[2-3]。 作者简介：许孝龙（1989-），男（汉族），安徽合肥人，08级园艺专业，本科在读。Emai:904362089@ *通讯作者：朱世东（1963-），教授，硕士生导师，主要从事设施园艺、无土栽培和蔬菜生理等研究。Email: sdzhuaau@ 硒作为微量营养元素特别是作为抗氧化剂在植物抗逆中的作用愈来愈受到人们的重视，它是植物生长发育、提高作物产量与品质，抵抗某些贵金属毒害及盐分的胁迫以及促进植物新陈代谢的必需微量元素。其生理作用主要表现为它是一些酶如谷胱甘肽过氧化物酶（GSH-Px）、谷胱甘肽磷脂氢过氧化物酶（PHGPX）等过氧化物的辅助因子并促进这些酶的活性而起到清除氧自由基的作用 [4-5] 。因此，研究硒对缓解高温胁迫对西瓜生长造成的伤害有着非常重要的现实指导意义。 1材料与方法 1.1 材料与处理 供试西瓜品种为广泛种植的早佳（8424）和京欣二号。栽培基质为珍珠岩：草炭：蛭石=1：1：1，并将Na2SeO3稀释后添加到基质，使基质硒元素的含量分别达到0.3、0.6、0.9、1.2mg·kg-1，编号1、2、3、4，设无硒处理的对照组（CK）。将供试种子经过催芽后，播于装有含硒量各不相同基质的营养钵内，将其置于自然温光条件下生长，并给予充足的水分。幼苗张到三叶一心时，选取生长势一致的植株置于光照培养箱中进行高温胁迫处理24h，并测定其相关指标。处理前先调至32℃进行2h的热锻炼，然后将温度升至前期预备试验得出的45℃。高温处理期间控制培养箱内光照强度为200umol·m-2·s-1，湿度为70%-80%。 1.2 测试项目 按文献[6]测定叶绿素a(Chla)、叶绿素b(Chlb)以及总叶绿素（Chla+Chlb）的含量、净光合速率（Pn），SOD、POD活性及MDA含量。GPX活性按按文献[7]测定。用浸泡法[8]测定叶片相对电导率。 1.3 统计分析 所有测试项目均作重复分析，测试指标在P＜0.05水平下进行单因素方差分析。