半导体二管及90.ppt

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半导体二管及90

第二章 半导体二极管及 应用电路;§2-1 半导体基础知识 (一)半导体 2.1.1 半导体材料 其导电能力介于导体和绝缘体之间。 半导体具有某些特殊性质:如压敏热敏及掺杂特性, 导电能力改变。 ;2.1.2 本征半导体,空穴及其导电作用;本征半导体:完全纯净的、结构完整的半导体晶体。;硅和锗的共价键结构;共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电子,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导体的导电能力很弱。;二、本征半导体的导电机理;+4;2.本征半导体的导电机理;温度越高,载流子的浓度越高。因此本征半导体的导电能力越强,温度是影响半导体性能的一个重要的外部因素,这是半导体的一大特点。;(二)杂质半导体; 二 P型半导体: 在本征Si和Ge中掺入微量Ⅲ族元素后形成的杂质半导体称为N型半导体。所掺入Ⅲ族元素称为受主杂质,简称受主(能供给自由电子)。下图所示(图2-2) P型半导体中,空穴为多子,自由电子为少子。 ;三 杂质半导体的载流子浓度: 少量掺杂,平衡状态下:ni2 =n0·p0 其中,ni 为本征浓度,n0 为自由电子浓度,p0 为空穴浓度 图2-3 杂质半导体的电荷模型,图中少子未画出来。 温度增加,本征激发加剧, 但本征激发产生的多子远小杂 质电离产生的多子。 ★半导体工作机理:杂质是电特性。 ★Si半导体比Ge半导体有更高的温度。因为同温度时, Si 半导体比Ge半导体本征激发弱,更高的温度时Si半导体 才会失去杂质导电特性。;§2-2 PN结的形成及特性;PN结的形成;PN结形成过程分解:;2.2.1 PN结的单向导电特性: 无外接电压的PN结→开路PN结,平衡状态PN结 PN结外加电压时 →外电路产生电流 正向偏置(简称正偏) PN结: PN结外加直流电压V:P区接高电位(正电位),N区接低电位(负电位) →正偏→正向电流;PN结加正向电压的 情形;;-;2 反向偏置(简称反偏) PN结反偏:P区接低电位(负电位),N区接高电位(正电位)。 * 硅PN结的Is 为pA级 * 温度T增大→ Is ; PN ???反向偏置;PN结加反向电压的情形;3 PN结的伏安特性 PN结的伏安特性曲线:图2-4;3.PN结的反向击穿??二极管处于反向偏置时,在一定的电压范围内,流过PN结的电流很小,但电压超过某一数值时,反向电流急剧增加,这种现象我们就称为反向击穿。 ?击穿形式分为两种:雪崩击穿和齐纳击穿。 齐纳击穿:高掺杂情况下,耗尽层很窄,宜于形成强电场,而破坏共价键,使价电子脱离共价键束缚形成电子-空穴对,致使电流急剧增加。 雪崩击穿:如果搀杂浓度较低,不会形成齐纳击穿,而当反向电压较高时,能加快少子的漂移速度,从而把电子从共价键中撞出,形成雪崩式的连锁反应。 ? 对于硅材料的PN结来说,击穿电压〉7v时为雪崩击穿,4v时为齐纳击穿。在4v与7v之间,两种击穿都有。这种现象破坏了PN结的单向导电性,我们在使用时要避免。 ? *击穿并不意味着PN结烧坏。 ;§2-3 半导体二极管;2.1.3 半导体二极管; 二、伏安特性;三、主要参数;3. 反向电流 IR;4. 微变电阻 rD;PN结的电流方程;5. 二极管的极间电容;CB在正向和反向偏置时均不能忽略。而反向偏置时,由于载流子数目很少,扩散电容可忽略。;二极管:死区电压=0 .5V,正向压降?0.7V(硅二极管) 理想二极管:死区电压=0 ,正向压降=0 ;§2-4 二极管基本电路及其分析方法;▼图2-6为典型的单相半波整流电路。 分析如下:;2-7;2 限幅电路: (1)双向限幅电路:如下图,设vi(t)=3sinωt ;3 钳位电路: 能改变信号的直流电压成分,又叫直流恢复电路。图2-8。 设vi(t) 是±2.5V 的方波信号2-9(b);2-8;§2.5 特殊二极管; 专门工作与反向击穿状态的二极管→稳压 管。电路符号图2-10(b),特性曲线图2-10(a)。 1 稳压 管的参数: ⑴稳定电压Vz ⑵最小稳定电流IzMIN : ⑶最大稳定电流IzMAX : ⑷动态电阻rz : ⑸动态电阻的温度系数α: ;(4)稳定电流IZ、最大、最小稳定电流Izmax、Izmin。;稳压二极管的应用举

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