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RENA前后清洗工艺学习report;;太阳能电池原理;太阳能电池工艺;前清洗工艺;前清洗工艺;前清洗工艺;前清洗工艺;? RENA Intex前清洗工艺步骤、设备构造： (1). 前清洗工艺步骤：制绒 ? 碱洗 ? 酸洗 ? 吹干 (2). RENA Intex前清洗设备主要分为以下8个槽，此外还有滚轮、排风系统、自动及手动补液 系统、自动及手动补液系统、循环系统和温度控制系统等。 ;1）.Etch bath：刻蚀槽，所用溶液为HF+HNO3 。 目的： 1.形成起伏不平的绒面，增加对太阳光的吸收，增加PN结面积，提高短路电流(Isc), 最终提高电池光电转换效率。 2.去除硅片表面的机械损伤层 (来自硅棒切割的物理损伤)。 所发生化学反应： HNO3+Si=SiO2+NOx↑+H2O SiO2+ 4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Quality: 100.0Kg (当药液寿命小于10kg时换槽体药液）;? RENA Intex前清洗机台Etch Bath recipe：;2）.Alkaline Rinse：碱洗槽，所用溶液为KOH。 目的：1.对形成的多孔硅表面进行清洗； 2.中和前道刻蚀后残留在硅片表面的酸液。 所发生化学反应： Si+2KOH+H2O →K2SiO3 +2H2 Bath lifetime: 250hours(当药液寿命小于20hours，需更换整槽药液） ? RENA Intex前清洗机台Alkaline recipe：;3）. Acidic Rinse：酸洗槽，采用溶液为HF+HCl， 目的：1. 中和前道碱洗后残留在硅片表面的碱液； 2. HF可去除硅片表面氧化层（SiO2），形成疏水表面，便于吹干； 3. HCl中的Cl-有携带金属离子的能力，可去除硅片表面金属离子； 所产生化学反应： SiO2+4HF=SiF4+2H2O SiF4+2HF=H2[SiF6] Bath lifetime: 250hours(当药液寿命小于20hours，需更换整槽药液) ? RENA Intex前清洗机台Acidic recipe：;4）. Rinse1－3：水洗槽, 采用去离子水(DI water) 在每个酸碱槽后都有一个水洗槽，水洗槽与槽之间是相互联通的。 在补水时是首先对Rinse 3进行补水，槽内水满后溢出流入Rinse2，最后待Rinse2水满后溢出流入Rinse1。 5）.Dryer1与Dryer2：风刀 气流从管子小孔内吹出，通过调节风刀的角度和吹风的压力，可以将硅片迅速吹干。;前清洗工艺参数： （1）.腐蚀深度的公式： (硅片清洗前重－硅片清洗后重)×8.82μm/g （2）.腐蚀深度范围值： 3.7±0.5μm 我们一般控制在3.6-3.8之间 （3）.绒面反射率: 越低越好，酸制绒平均可以为25.4% 理想值27%;前清洗异常片隔离下传标准： 1）腐蚀深度异常 腐蚀深度规格：3.7±0.5 um； 腐蚀深度异常片评审下传标准：腐蚀深度不在SPEC范围但≥2.9um的批次可评审下传； 腐蚀深度异常片隔离返工标准：腐蚀深度小于2.9um的批次需全部隔离返工； 2）传递时间 传递时间规格 : 前清洗至扩散的传递时间小于4h； 传递时间超时评审下传标准 : 前清洗至扩散的传递时间介于4～5h间的问题批次可评审后下传； 传递时间超时隔离标准：前清洗至扩散的传递时间超过5h的批次需全部隔离返工； 3）外观不良 a. 小水珠： 由于风刀吹不干导致硅片边缘或中间区域残留有轻微小水珠的情况，严禁下传，隔离返工