国家同步辐射研究中心出国报告书.PDF

國家同步輻射研究中心 出國報告書 NSLS-II 與 APS 精密機械與前端區相關考察報告書 出國人姓名 ：許耿豪、管建銧 出國日期 ：10/16-10/22, 2011 目的地 國家 ( 、城市) ：美國, 芝加哥 、紐約州長島 參加會議名稱或考察 、研究訓練地點 ： 1. Advanced Photon Source (APS) ,Argonne National Laboratory (ANL), Chicago, Illinois, USA 2. National Synchrotron Light Source-II (NSLS-II), Brookhaven National Laboratory (BNL), New York, USA 請自下一頁開始撰寫( ) 2011 NSLS-II 與 APS 精密機械與前端區相關考察報告書 一、一 、目的目的 一一 、、目的目的 與 APS及 NSLS-II 加速器機械領域相關人員交流，考察其精密機械製 造、定位、振動、 XBPM 與前端區的設計與製造技術並藉此說明我同步輻 射研究中心目前 TPS前端區與機械支架定位設計發展之近況。另外也參觀 正在興建的 NSLS-II 加速器。 二、二 、行程行程 二二 、、行程行程 10/16 到芝加哥，租車前往Argonne Guest House 入住 10/17 APS ：EPU XBPM設計討論、參觀舒德明博士實驗室 10/18 APS：拜訪APS 機械組內的研究人員進行討論、與舒博士討論EPU XBPM設計與實驗的相關事宜 10/19搭機前往紐約甘迺迪機場，租車前往長島 10/20 NSLS-II ：參觀NSLS-II 真空與機械組裝區、拜訪NSLS-II XBPM 與 Mechanical Engineering Group的研究人員討論相關問題 10/21 NSLS-II ：聆聽NSLS-II Front End設計現況簡報、報告 TPS 前端 區與支架定位現況 10/22回台灣 三、三 、內容摘要內容摘要 ：： 三三 、、內容摘要內容摘要 ：： 3.1 3.1 EPU XBPMEPU XBPM設計討論設計討論 3.13.1 EPU XBPMEPU XBPM設計討論設計討論 EPU XBPM設計討論使用電子級 diamond 材料， EPU 參數討論，安 裝結構討論。 討論 EPU XBPM測試片在 TLS 上先做測試夾治具的設計討論。上海 光源設計的XBPM 材料討論，上海光源使用黑色 Diamond ，表示純度不是 太好，輻射光照久了，如果溫度太高，可能產生碳化現象，這不利於熱導。 2011 NSLS-II 與 APS 精密機械與前端區相關考察報告書 3.23.2 參觀舒德明博士實驗室參觀舒德明博士實驗室 3.23.2 參觀舒德明博士實驗室參觀舒德明博士實驗室 由舒博士介紹一些實驗室正在研究的東西，不過由於有些尚未發表， 故謝絕拍照。 Weak-Link Mechanism 利用半導體 lithography 方式製造高精度的減速機構，實現旋轉方向的 運動。且在其他方向剛性佳。將很多片利用膠結合在一起，可因為內摩擦 有 damping作用，可降低振動。 Vertical Stage 高解析高行程的 stage罩在壓克力板內，上面有承受 4kg的鎢塊作為 負荷，內用 PI （型號：N2626 ）壓電制動器。利用Polytech, SIOS, Renishaw 三家的laser fiber interferometer量測 stage解析度與重複性。振動的雜訊 peak to peak值約 2nm ，RMS值約 1nm。移動行程的範圍小從1~2 nm，大到3mm 。 Stage 上有鎖很多個螺絲避免間隙，側邊有孔。設計有考慮振動。 舒博士以前的學生，也是現在機械組的組員 Curt Preissner有發現水幫 浦會產生 60Hz, 120Hz 振動。他目前正利用加速規量測環境