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对立方对称晶体,可假设所有跃迁矢量的大小都相等 跳跃是随机的,对任一矢量方向的跳跃都具有相同的频率,对任一矢量都有一个反向矢量对应,余弦项平均值为0 考虑3维跃迁 P=1/6 与扩散方程推导结果一致 影响扩散的因素 1.温度 温度是影响扩散速率的主要因素,温度越高,原子热激活能越大,扩散系数越大 2.固溶体类型 间隙、置换 3.晶体结构 溶质在致密度低的晶体中的扩散速率大于致密度高的晶体;固溶体溶 解度大,有利于促进扩散;晶体的对称性越低,扩散各向异性越显著 4.晶体缺陷 晶界、表面和位错等晶体缺陷对扩散起着快速通道的作用 5. 化学成分 组元特性:结合键强度越大,扩散激活能越高 溶质的浓度 第三组元 6.应力的作用 应力梯度 反应扩散 通过扩散形成新相的现象称为反应扩散或相变扩散 实验结果表明:在二元合金经反应扩散的渗层组织中不存在两相混合区,而且在界面上的浓度是突变的 离子晶体中的扩散 离子晶体中离子的扩散,只能进入同样电荷的位置,由于电中性的要求,只能依靠空位来进行 阳离子和阴离子空位同时产生,两种空位等量 为形成一对肖特基空位的形成能 A为振动熵决定的参数,一般为1 弗兰克尔型无序态 同时存在间隙阳离子和阴离子空位缺陷 当固体材料在恒压的电场中,材料的电子、离子将定向迁移而产生电流 在离子晶体中:离子的定向扩散 在金属晶体中:电子流动 当以间隙机制进行扩散时, 当以空位机制进行扩散时, f为空位机制扩散的相关因子,1 离子键的结合能大于金属键的结合能,扩散离子所需客服的壁垒比金属原子大的多,为了保持局部的电中性,必须产生成对的缺陷,这就增加了额外的能量,再则扩散离子只能进入具有同样电荷的位置,迁移距离较长,导致离子扩散速率远小于金属原子的扩散速率 阳离子扩散系数比阴离子大,因为阳离子失去电子,半径小于阴离子 组分缺陷 非化学计量配比的化合物中,由于晶体化学组成的偏离,形成离子空位或是间隙离子等晶格缺陷成为组分缺陷。这些晶格缺陷的种类、浓度将给材料的电导带来很大的影响。 阳离子空位 金属氧化物MnO,FeO,CoO, NiO等由于氧过剩,通常写为M1-δO。 δ 值取决于温度和周围氧分压的大小,并因物质种类而异。在平衡状态下,缺陷化学反应如下: 在这些金属氧化物中,阳离子通常为正二价,一旦氧过剩,为了保持电中性条件,一部分阳离子变成正三价,可以视为二价阳离子俘获一个空穴,形成弱束缚空穴。通过热激活,极易放出空穴而参与电导,从而形成p型半导体。其能带结构如下图所示: 氧过剩型非化学计量配比氧化物的能带结构 在能带间隙内形成受主能级,这些空位的电离在价带顶部产生空穴,从而形成p型半导体。 阴离子空位 TiO2等金属氧化物,在还原气氛焙烧时,还原气氛夺取了TiO2中的部分氧在晶格中产生氧空位。每个氧离子在离开晶格时要交出两个电子。这两个电子可将两个Ti4+还原成Ti3+,但三价离子不稳定,会恢复四价放出两个电子 式中□为氧离子缺位。由于氧离子缺位,分子式表达为TiO2-δ。上述反应的缺陷平衡式为 氧离子空位相当于一个带正电荷的中心,能束缚电子。被束缚的电子处于氧离子空位上,为最邻近的Ti4+所共有,它的能级距导带很近,如下图所示: 氧不足型非化学计量配比氧化物的能带结构 当受激发时,氧空位束缚的电子可跃迁到导带中去,因为既有导电能力,形成n型半导体。 作业 1.一块w (C)=0.1%的碳钢在930℃渗碳,渗到0.05cm的地方,碳的浓度达到0.45%。在t>0的全部时间,渗碳气氛保持表面成分1%,假设Dcγ=2.0×10-5 exp (-140 000/RT)(m2/s), ① 计算渗碳时间 ② 若将渗碳层加深一倍,则需要多长时间? ③若规定w (C)=0.3%作为渗碳层厚度的量度,则在930 ℃渗碳10h的渗层厚度为870 ℃时渗碳10h的多少倍? 作业 2.在一个富碳的环境中对钢进行渗碳,可以硬化钢的表面。已知在1000 ℃下进行这种渗碳处理,距离钢的表面1~2mm处,碳原子含量从x=5%减到x=4%.估计在近表面区域进入钢的碳原子的流入量J(atom/m2s)。(γ-Fe在1000 ℃ 的密度=7.63g/cm3,碳在γ-Fe 中的扩散系数D0=2.0×10-5 m2/s ,激活能Q=142kJ/mol) 3.对于晶界扩散和体内扩散,假定扩散激活能Q晶界≈1/2 Q体积,试画出其lnD相对倒数1/T的曲线,并指出越在哪个温度范围内晶界扩散起主导作用? 4.已知Al在Al2O3中D0(Al)=2.0×10-5 m2
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