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产经报告 高纯硅烷市场 第一章 高纯硅烷的概述 第一节 高纯硅烷简介 分子式：SiH4 性质：纯度大于99.999% 要求：H250cm3/m3, O2+Arlcm3/m3, CH31cm3/m3, CO+CO21cm3/m3, H2Olcm3/m3, 总氯0.14mm3/m3。 在常温常压下为恶臭的无色气体。在空气或卤素气体中发生爆炸 性燃烧。与金属卤化物激烈反应,也与 CCl4 反应,对硅烷不能用氟里 昂灭火剂。熔点-185.0℃。沸点-111.5℃。一般采用低温吸附连续液 化精馏提纯工艺,在生产中对气体成分进行连续监控,制得产品。用于 半导体生产中的生长高纯单晶硅、多晶硅外延片以及二氧化硅、氮化 硅、磷硅玻璃、非晶硅等化学气相淀积工艺。并广泛用于非晶硅太阳 能电池、硅复印机鼓、光电传感器、光导纤维、特种玻璃等的生产研 制。 第二节 高纯硅烷特点 在众多电子气体中，同其它硅源化合物相比，硅烷因独具许多特 性而被优先使用。集成电路 （IC）等行业对硅烷气体的纯度要求很高， 半导体器件性能的好坏，在很大程度上取决于所用电子气体的质量。 1 产经报告 高纯硅烷市场 硅烷是一种无色、与空气反应并会引起窒息的气体。该气体通常 与空气接触会引起燃烧并放出很浓的白色的无定型二氧化硅烟雾。它 对健康的首要危害是它自燃的火焰会引起严重的热灼伤，如果严重甚 至会致命。如果火焰或高温作用在硅烷钢瓶的某一部分会使钢瓶在安 全阀启动之前爆炸。如果泄放硅烷时压力过高或速度过快会引起滞后 性的爆炸。泄漏的硅烷如没有自燃会非常危险，不要靠近。处理紧急 情况的人员必须要有个人防护设备和适应当时情况的防火保护。不要 试图在切断气源之前灭火。 第三节 高纯硅烷的制备和处理技术 1.国外生产高纯硅烷大都采用氢化锂铝法(日本除外)；国内全部 采用“A-F 硅烷法”(也称硅化镁法），即硅的金属化合物如硅化镁与 工业氯化铵在液氨介质中发生化学反应生成硅烷。 2.硅化镁是用镁粉(30～60 目，纯度99.9%)与干燥硅粉(120 目， 纯度99%)以5：3(重量比)在低真空下进行气固反应所得的硅镁合金， 其合成率为 75%左右。在反应釜里生成的硅烷经-80℃的冷凝提纯和 4A、5A 分子筛的深提纯可制得高纯硅烷。 第四节 高纯硅烷的应用 高纯度特种气体硅烷SiH4 等广泛应用于电子行业、太阳能电池、 移动通讯、汽车导航、航空航天、军事工业等方面。目前我国只能生 产纯度在 3N~4N 标准的特种气体，而在许多重要领域，比如：国家战 备武器研究和神州七号运载火箭上的控制系统的电子原器件的制造， 以及卫星上使用的太阳能电池的制造等方面所急需的 6N 标准的气体 2 产经报告 高纯硅烷市场 全部依靠进口。 3 产经报告 高纯硅烷市场 第二章 全球高纯硅烷市场 第一节 全球高纯硅烷产业发展历程 一、全球高纯硅烷供需状况 目前全世界年产1500兆非晶硅太阳能电池，仅这一项，约需8500 吨高纯硅烷，而实际太阳能级需求的高纯硅烷需求在年 15000 吨以 上，近几年全世界高纯硅烷的产能仅为12000吨/年左右，70%左右回 用于制造集成电路，二极管，三极管等半导体器件，绝对满足不了光 伏工业的需求，供需矛盾十分突出，并导致全球范围内高纯硅烷严重