半导体材料的基本性质-(3).ppt

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第1章 半导体材料的基本性质 1.1 半导体与基本晶体结构 1.1.1 半导体 导电能力介于导体于绝缘体之间的一些单晶体,就叫半导体。 1.杂质敏感性 2.负温度系数 3.光敏性 4.电场、磁场效应 晶体结构是值原子在三维空间中周期性排列着的单晶体。 晶胞:单晶体结构可以用任意一个最基本的单元所代表,称这个最基本的单元叫晶胞。 晶格:单晶体是由晶胞在三维空间周期性重复排列而成,整个晶体就像网格一样,称为晶格。 格点与点阵,组成晶体的原子重心所在的位置称为格点,格点的总体称点阵。 1.1.4晶面及其表示方法 密勒指数:密勒指数是界定晶体中不同平面的简单办法,它可以由以下步骤确定: 1.找出晶面在3个直角坐标轴的截距值(以晶格常数为计量单位); 2.取这3个截距值的倒数,将其换算成最小的整数比; 3.把结果用圆括号括起来(hkl), 即为该晶面的密勒指数。 1.1.5 半导体材料简介 材料永远起着决定一代社会科技水平的关键作用 锗是最早实现提纯和完美晶体生长的半导体材料 硅是最典型、用量最广泛而数量最多的半导体材料 近年来一些化合物半导体材料已被应用于各种器件的制作中 半导体已经发展成为种类繁多的大科门类材料 1.2半导体的能带 1.2.1 孤立原子中电子能级 孤立氢原子中电子能量公式: 1.2.2 晶体中电子的能带 本节重点讨论有原子结合成晶体时电子的运动规律 1.晶体中电子的共有化运动 2.晶体中电子能带的形成 1.2.3 硅晶体能带的形成过程 1.2.4 能带图的意义及简化表示 1.3 本征半导体与本征载流子浓度 1.3.1 本征半导体的导电结构 本征半导体导带电子和价带空穴均能在外加电场作用下,产生定向运动形成电流,把上述两种荷载电流的粒子称为半导体的俩种载流子. 导带电子浓度和价带空穴浓度永远相等,这是本征半导体导电机构的一个重要特点. 1.3.2 热平衡状态与热平衡载流子浓度 在本征半导体中,载流子是由价带电子受晶格热运动的影响激发到导电带中而产生的,热激发有使载流子增加的倾向. 导带电子以某种形式放出原来吸收的能量与空穴复合,复合作用又使电子和空穴的数目减少. 我们把载流子的热激发产生率与复合率达到平衡的状态,称为半导体的热平衡状态.热平衡状态下的载流子浓度值称为热平衡载流子浓度. 1.3.3 本征载流子浓度 要分析载流子在外界作用下的运动规律,必须要知道它们的浓度及浓度分布情况. 在半导体的导带和价带中,有很多能级存在,相邻间隔很小,约为 数量级,可近似认为能级是连续的,故可把能带分为一个一个能量很小的间隔来处理. 设电子浓度为n,首先计算能量增量dE范围内的电子浓度. 定义n(E)是单位体积内允许的能态密度N(E)与电子占据该能量的机率函数f(E)的乘积.对N(E) f(E) dE从导带底Ec到导带顶Etop进行积分,可得电子浓度n. 式中N(E)称为能态密度,在单位体积晶体中,允许的能态密度表达式为 式中mn代表电子的有效质量;mp代表空穴的有效质量. 电子占据能量为E的机率函数称为费米分布函数,其表达式为 k为玻尔兹曼常数;T为热力学温度;EF是费米能级. 可以用曲线把费米分布函数式表示出来. 不同温度下费米分布函数随(E-EF)的变化关系 下图从左到右形象描绘出了能级分布,费米分布及本征半导体与空穴在能带中的分布情况. 1.3.4 费米能级与载流子浓度的关系 1.费米能级 费米能级在能带中所处的位置,直接决定半导体电子和空穴浓度. 费米能级的位置 2.两种载流子浓度的乘积 由上式可以看出,随温度的升高.半导体np乘积的数值是要增大的. 利用本征半导体电子和空穴浓度的关系可以得到 因此半导体两种载流子浓度的乘积等于它的本质载流子浓度的平方. 3.本征载流子浓度与本征费米能级 右图为 Si和GaAs中本征载流子浓度与温度倒数间的关系 1.4 杂质半导体与杂质半导体的载流子浓度 1.4.1 N型半导体与P型半导体 N型半导体:在纯净的本征半导体材料中掺入施主杂质后,施主杂质电离放出大量能导电的电子,使这种半导体的电子浓度n大于空穴浓度p,把这种主要依靠电子导电的半导体称为N型半导体,如图a所示。 P 型半导体:在纯净的本征半导体材料中掺入受主杂质后,受主杂质电离放出大量能导电的空穴,使这种半导体的空穴浓度p大于电子浓度n,把这种主要依靠空穴导电的半导体称为P 型半导体,如图b所示。 1.4.2 施主与受主杂质能级 1.4.3 杂质半导体的载流子浓度 1.4.4 杂质半导体的费米能级及其与杂质浓度的关系 1.4.5 杂质半导体随温度的变化 1.5 非平衡流子 1.

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