光刻机双工件台系统的可靠性分析与试验-机械设计及理论专业论文.docxVIP

万方数据 万方数据 RELIABILITY HYPERLINK /analysis ANALYSIS AND TEST FOR DUAL-STAGE SYSTEM OF LITHOGRAPHY A Thesis Submitted to University of Electronic Science and Technology of China Major: Mechanical Design and Theory Author: Ling Li Advisor: Hong-Zhong Huang School : School of Mechatronics Engineering 万方数据 万方数据 独创性声明 本人声明所呈交的学位论文是本人在导师指导下进行的研究工作 及取得的研究成果。据我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地方 外，论文中不包含其他人已经发表或撰写过的研究成果，也不包含为 获得电子科技大学或其它教育机构的学位或证书而使用过的材料。与 我一同工作的同志对本研究所做的任何贡献均已在论文中作了明确的 说明并表示谢意。 作者签名： 日期： 年 月 日 论文使用授权 本学位论文作者完全了解电子科技大学有关保留、使用学位论文 的规定，有权保留并向国家有关部门或机构送交论文的复印件和磁盘， 允许论文被查阅和借阅。本人授权电子科技大学可以将学位论文的全 部或部分内容编入有关数据库进行检索，可以采用影印、缩印或扫描 等复制手段保存、汇编学位论文。 （必威体育官网网址的学位论文在解密后应遵守此规定） 作者签名： 导师签名： 日期： 年 月 日 万方数据 万方数据 万方数据 万方数据 摘 要 摘 要 微电子技术的迅猛发展同时也加快了光刻设备的技术变革，光刻技术仍然位 于诸多技术之首。光刻机是制造大型集成电路的重要设备，集成电路的集成度以 每年 4 倍增长，特征尺寸以近 1.5 倍缩小，这些都要求光刻机具有可靠的加工精度 和稳定的生产效率。 光刻机的核心部分是工件台系统，掩模台和硅片台作为工件台的重要组成部 分，直接决定着光刻机是否符合行业标准并迎合市场的需求。在国内，缺乏性能 可靠的精密工件台已成为限制光刻机设备发展的重要因素，所以提高国产精密工 件台的可靠性水平是十分必要的。本课题来源于 02 国家科技重大专项项目子课题， 主要以光刻机双工件台系统中的掩模台和硅片台为研究对象，开展了可靠性分析 和可靠性试验方案的设计，其主要内容包括以下几个方面： （1）依据双工件台系统的结构，将其分为硅片台、掩模台和控制系统三大部 分；针对掩模台和硅片台所需完成任务、实现功能及可靠性工作的特点，将掩模 台和硅片台进一步划分到组件级别，为综合评判及风险分析确定层次。 （2）利用模糊综合评判方法，针对系统中各组件的故障风险进行综合评价， 得到硅片台系统组件级别的薄弱环节是粗动台和微动台，并以此为基础，将所有 组件的故障风险排序，得到系统的总体评价为在一般情况下是安全的。 （3）针对模糊综合评判分析出的薄弱环节，以精度是否符合要求为标准选取 顶事件，建立掩模台及硅片台的精度故障树，进行定性分析；将精度故障树转化 为二元决策图，进行定量分析，作为系统综合评价的扩展。 （4）针对模糊综合评判分析出的薄弱环节，选取掩模台与硅片台的关键部件 气浮轴承和音圈电机为试验对象，制定可靠性试验大纲，为暴露潜在故障和给出 相应的可靠性增长建议提供指导。 关键词：双工件台系统，模糊综合评判，FMECA，可靠性试验 I AB ABSTRACT ABSTRACT The rapid development of microelectronics technology speed up the technological change of lithography equipment at the same time, while lithography is still located on the first of many technologies. Lithography is an important equipment of manufacturing large scale IC, whose integrity increasing 4 times a year, to nearly 1.5 times smaller feature size, that requires lithography with reliable machining precision and stability of the production eff