GB/T 11164-2011真空镀膜设备通用技术条件.pdf

ICS23．160 J78 固雪 中华人民共和国国家标准 11164—2011 GB／T 11164 代替GB／T 1999 真空镀膜设备通用技术条件 Vacuum coatingplantgenericspecification 2011-11-21发布 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局学者 中国国家标准化管理委员会及113 11164—2011 GB／T 目 次 前言……………………- 1范围………………… 2规范性引用文件…… ．i 3术语和定义………… 4技术要求…………… 2 5试验方法…………… 6检验规则…………… 4u 7标志、包装、运输、贮存 5 11164—2011 GB／T 刖 吾 本标准按照GB／T 1．1—2009给出的规则起草。 本标准代替GB／T11164--1999《真空镀膜设备通用技术条件》，与GB／T11164—1999相比主要变 化如下： ——为使用方便增加了目次； 11164 ——修改了GB／T 1999中真空镀膜设备的压力范围，由10_4Pa～lO。Pa修改为10“Pa～ 103 Pa； ——修改了GB／T11164--1999表1中镀膜室尺寸分档，增加了300、400、450、1100、1350、2200、 2400、2500、2600、3 200十档尺寸，并对带“*”号尺寸优先选用进行了调整； ——修改了GB／T 档镀膜设备的极限压力、抽气时间及升压率指标； ——因GB／T 11164—1999中部分规范性引用文件已修订，故本标准引用现行标准； 11164 ——修改了GB／T 1999的4．4．6，用表格的方式规定了设备配套的电器装置中各电气回路 的绝缘电阻值； 11164 ——修改了GB／T 1999的4．5．4及4．5．12，增加了安全防护内容。 本标准由中国机械工业联合会提出。 本标准由全国真空技术标准化技术委员会(SAC／TC18)归口。 本标准负责起草单位：北京北仪创新真空技术有限责任公司。 本标准参加起草单位：上海曙光机械制造厂有限公司、兰州真空设备有限责任公司、成都南光机器 有限公司、中国航天科技集团第五研究院第510研究所、上海惠丰石油化工有限公司、沈阳真空技术研 究所。