原子光刻中的原子沉积数值模拟.pdfVIP

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VOL 第32卷第3期 光学仪器 32,No.3 2010年6月 0PTICALINSTRUMENTS June,2010 文章编号:1005—5630(2010)03—0078—04 原子光刻中的原子沉积数值模拟* 梅卓君,王占山,马艳 (同济大学物理系精密光学工程技术研究所,上海200092) 摘要:近年来,有关原子光刻的实验研究得到了快速发展,并取得了一系列重大的实验进展。在 原子光刻中,对不同原子在各种条件下的沉积过程的研究是具有非常重要的意义的。现利用有 限差分法求解光与原子作用的薛定谔方程分析了激光功率、失谐量、腰斑大小以及原子纵向速 度对汇聚效果的影响,总结了一些原子在驻波场中各项参数对沉积效果的影响。 关键词:原子光刻;原子汇聚;有限差分法 中图分类号:TN305.7文献标识码:A Numericalsimulationofatomic intheatom deposition lithography MEI Yah Zhanshan,MA Zhuojun,WANG (InstituteofPrecision of 200092,China) OpticalEngineering,DepartmentPhysics。TongjiUniversity,Shanghai Abstract:The researchesonatom a these experimental lithographygotrapiddevelopmentyears andhavemadeaseriesof researchofthe ofatomic significant processes progress.The differentatomsinvariousconditionshasan finite- depositionusing importantsignificance.The differences isusedtosolvea theatom-laser approximation Schrodingerequationdescribing field laser and interactions.Theeffectof radius of power,detuning,waistlongitudinalvelocity atomsto are effectssome totheatomsina laser focusinganalyzed.Theby parameter standing wavefie

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