光学镀膜简介.pptx

表面鍍膜簡介 忠信科技 陳忠詰 報告大綱 壹：抗反射（AR）（Anti-reflection） 貳：抗炫光（ AG ）（Anti-glare） 參：AR v.s. AG 肆：抗指紋（防污AS ）（Anti-smudge） 伍：防霧（ AF ）（anti-fog） 壹：抗反射（AR） 壹：抗反射（AR） 一：基本原理：干射 （入射光與反射光相互干射而抵消） 二：說明： 三：作法： （一）貼膜或著色。 （二）蒸鍍或濺鍍。 （三）溶膠塗佈。 四：溶膠種類： （一）反應型。 （二）結晶型。 反射 一次干射 二次干射 空氣 SiO2 TiO2 玻璃 作法比較 不同性質溶膠 Coating操作的比較 比較項目 反應型 結晶型 浸泡次數 可一次完成 1～4次 藥液溫度 愈低愈好 30～40℃ 環境溫度 愈低愈好 30～35℃ 濕度 愈低愈好 愈低愈好 拉昇速度對膜厚 愈快愈厚 愈快愈厚 自動控制 不能 可自動控制 分析頻率 高（2～4Hr∕次） 低（3～6天∕次） 操作條件調整 隨藥液老化調整 不需要 換槽要求 2～4週 半年～一年 污染防治要求 高 一般 不同性質溶膠 Coating後成品的性質比較 比較項目 反應型 結晶型 膜厚再現性 不佳 良好 膜層安定性 容易脫膜 安定性高 光譜再現性 不佳 良好 光譜安定性 不佳 良好 燒結溫度 較高 較低 貳：抗炫光（ AG ） 貳：抗炫光（ AG ） 一：基本原理： 表面均勻霧化，使反射光達到散射的效果 二：作法： （一）傳統：表面蝕刻 ，產生微小凹凸 ,對外界光源照射進行漫反射 。 （二）新法：奈米塗佈，產生許多細小粒子來造成光線的發散。 ～0. 抗炫光（ AG ）製作方法比較 比較項目 傳 統 新 法 抗炫光原理 表面微小凹凸 細小結晶粒子 形成方式 表面蝕刻 奈米塗佈 厚度（μm） 3～10 0.1～0.4 透光度下降 10～20％ 2～5％ 硬度 HB～1H 3～4H 抗炫光力 100％ 150～200％ 參：AR v.s. AG 類 別 AG AGR AR（V） AR（W） 處 理 程 序(步 驟) 1 3 2 3～4 操 作 成 本 (%) 100 150 200 300 產品特性 劃素（百萬） ≦200 ≦600 ≦1,000 ≧1,000 清 晰 度 要 求 一般 一般 高 最高 背 光 強 度 低 低 不限 不限 透光品質要求 低 低 高 最高 應 用 反射鏡 ● ● 手機 ● ● 手機(高劃素) ● LCD螢幕 ● ● CCD鏡頭 ● ● 光學儀器 ● 肆：抗指紋（防污AS ） 肆：抗指紋（防污AS ） 一：基本原理： （一）表面平整化。 （二）材料表面張力很大。 （三）材料介質不易極化。 二：符合物質：铬（Cr）、氟化物。 三：作法： （一）電鍍：鍍铬（Cr） 。 （二）高分子塗佈：Teflon膠。 （三）真空蒸鍍：氟化鈣（CaF2） （四）複合塗佈：奈米塗佈∕含氟高分子。 防污（ AS ）不同作法的比較 類 別 電鍍 高分子塗佈 真空蒸鍍 複合塗佈 材 料 铬 Teflon膠 氟化鈣 奈米塗佈∕ 含氟高分子 適用基材 金屬 不限 不限 不限 投資成本（萬元） 1,