膜系设计、结构及调试.pptx

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工艺部专题讲座;主要内容:;光学设计 宏观薄膜干涉理论 干涉的条件:同一光源发出、频率相同、振动方向相同、路径不同、相位差恒定 干涉的结果:相长和相消 利用干涉现象,通过调节膜厚来改变颜色或反射率的分析 (1)叠加原理 -90°~+90°之间发生相长干涉;90°~270°之间发生相消干涉 (2)界面反射光线的相位变化 当光线由光疏介质进入光密介质时,界面处的反射光线会有180°的相位变化 (3)进入光密介质被压缩 用于计算膜层1/4波长的光学厚度。 eg:550nm处得到一个1/4波长厚度的SiO2(n=1.45)膜层的计算: 真空1/4 波长: 550÷4=137.5 在 SiO2 中被压缩后的修正值: 137.5÷1.45=94.8 在550nm处得到1/4波长光学厚度,SiO2的膜层厚度应该约为95nm。; 举例:设计一个SiO2膜,尽可能地削弱在550nm处的反射 分析: 两列光在界面处反射都有180°相位变化,相互抵消,由路径带来的相位变化即为最终的相位变化; 尽可能削弱550nm处反射,相消干涉,180°路径相位差,则需1/4波长光学厚度,因为1/4+1/4=1/2, 95nm 在275nm处,95nm厚的膜是半波的长度,1/2+1/2=1 路径差产生360°相位差, 相长干涉,反射增强。 另外,如果膜厚超过95nm,那么最小反射率会红移,即向更长波长方向,膜层的颜色也会发生变化 550nm处最小处时,发射颜色是蓝色和红色光线的中和,眼睛看起来为紫色。 限制: 多次反射;多层膜;频散; ; 微观材料特性模型+电磁理论 (1) 基础理论: 光是一种电磁波能量 材料具有一定形式的微观结构:自由电子、振动的原子和晶格、能级结构等 光作用用材料上,会引起材料微观的运动形式发生变化,反过来影响光波的电磁场 (2) 处理方法: 光——电磁波动学,波动方程表示 材料——根据不同的材料类型,采用不同的处理方法, 经典传播理论中处理原子或晶格振动吸收的物理偶极震荡模型, 处理带间跃迁吸收的量子力学模型等 两者先联系,再结合材料本身的电磁性质方程,得到材料的光学常数模型 (3)数学计算 电磁学方程和光的波动方程加上数学推导,得到了一些列单层、多层膜的反射率、透过率、吸收的计算公式 这些计算公式形式:R = f (波长、入射角度、材料光学常数、膜层厚度) 以上这些是构成薄膜设计的计算基础,是准确计算复杂膜层光学性能的依据,也是软件模拟计算的基础 ; 以Lorentz原子谐振子模型为例说明: 在外电场作用下,原子内部电子和原子核会偶极化,即偏离正常位置,并且围绕平衡位置做 周期运动,在此过程中彼此碰撞会造成能量损耗,故模型化为阻尼谐振器。电子受到加速力、 阻力、回复力以及光辐射的电场力,综合电子的位移和受力总结得到以下方程: 代入光的波动方程: 得到电子的位移表达式 结合材料本身的电磁性质方程,极化强度矢量: 电位移矢量: 将极化强度Presonant 代入可

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