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4.爐體的清潔: 爐體的清潔至關重要,必須嚴格按照SOP作業,但仍需注意以下: 1.每班生產前要空鍍一爐; 2.每爐生產完畢要用無塵紙將爐底擦乾淨並用工業吸塵器吸乾淨,保證爐底無耙材顆粒和其他雜誌 3.每爐生產前須檢查真空膠圈,不能有雜質且真空膠圈要保持溼潤. 5.設備運轉狀況: 1.日常維護: 1.檢查冷卻水循環是否正常,各分流水管是否有水流. 2.清潔桶身上的大膠圈. 3.清潔桶門法蘭面. 4.簡單的清潔桶內. 5.油回轉泵洩水一次. 6.Polycold裝置則須除霜一次. 7.真空計穩定狀況 2.周/季/年保養 5.非導與高溫高濕後產品變色的平衡 非導NG 高溫高濕變色 平衡點 耙材量減少 耙材量增加 尋找平衡點(實例說明): 說明:採用不同的素材,不同的機台,驗證結果均會不一樣! 平衡點 6.目前NCVM的開發 1.提升VM產能 2.VM鍍層的膜厚監控 1.提升VM產能: 方向:a.提升VM Chamber每爐產品的數量; b.縮短VM Chamber每爐的生產時間. a.提升VM Chamber每爐產品的數量: 改善方案一:將VM機挂具由五層改為六層如 此一來能提升產能比例為:(6-5)/ 5 * 100% = 20% 現狀: 每個挂具只有五層,每層挂一個Spindle 改善方案一: 在總高度不變的前提下,每個挂具增加到六層 改善方案方案二:在由五層改為六層的基礎上,增加一個支架支撐座,挂具每層可放置兩個spindle的產品。靠近VM機內部立柱的六個挂具不變,其余8個挂具均按此方式作改善。 效率提升=(8*12+6*6-5*14)/(5*14)=90% 挂具 新增的支撐架,原治具支架放置處由紅色中心處向兩邊偏移 此方案需驗証挂具之間的距離是否足夠,避免兩挂產品互相碰撞。 改善方案方案三:基於將挂具改善為6層的理念,將購入的Chamber將挂具設計成“冰糖葫蘆”式挂法,每層可挂4個spindle,考慮到機體內部的空間,挂具由14個減少為9個。如此方案可行,則預計效率較現狀提升(未考慮VM C/T是否會因此改變而延長):(9*6*4-14*5)/(14*5)*100%=209% 6層,每層1挂 6層,每層4挂 b.縮短VM Chamber每爐的生產時間: 改善方案:降低真空度,縮短抽真空時間 改善思路:1.各Chamber所配置的真空計不一 樣,其誤差極高,導致所顯示的真空度數值差異 極大,為統一其真空度必須用真空度檢測儀修正 各Chamber的真空度設定值 2.根據真空檢測儀檢測到的真空度 顯示偏高.根據真空環境下氣體分子的自由路徑 與真空度的關係,目前所設定的真空度可以降低 改善歷程: 1.真空度的確定: 重複測量改善後的真空度及抽真空時間,並將其改善 結果copy到其他機台,確定其設定真空度 找出真空度檢測儀檢測數據與機台真空計顯示數據 之間的關聯,並記錄抽真空時間(一個機台重複三次) 根據檢測數據和氣體分子平均自由路徑進行分析, 並結合抽真空時間得出改善真空度的點 機台號 顯示真空度(Torr) 所耗時間(min) 檢測真空度(Torr) VM Chamber A/B/C 1.25*10-4 9~11 7.5~7.6*10-5 VM Chamber D/E/F/H/ 3.0*10-5 10~11 7.0~7.3*10-5 2.批量驗證: a.小批量驗證: 驗證改善真空度後的產品外觀,非導性能,常規性能,ALT性能等是否與改善前有差異; 驗證改善真空度後一爐時間是否穩定在10min; b.大批量量試: 驗證改善真空度後產品各性能的穩定性 優化制程條件和作業手法 NCVM技術寶典 目 錄 1.NCVM介紹 2.NCVM鍍膜技術要點 3.NCVM烤漆技術要點 一.NCVM介紹 基本內容: 1.NCVM產品介紹 2.VM的原理 3.真空鍍膜方法的比較 4.NCVM制程的基本流程 5.VM使用之材料 6.NCVM的用途 1-1.NCVM產品 1-2.VM的基本原理 VM=Vacuum Metalization 主要原理是﹕在真空狀態下﹐將欲鍍物質(如金屬或合金 或其化合物)通過直接或間接加熱﹐使之熔解﹐然后蒸發(或直接由固體升華為氣體)﹐獲得足夠能量的原子或分子飛向并沉積在工件表面﹐沉積一定厚度的膜層。 NCVM= Non-conductiv
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