空间RB—SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术.pdf

第16卷第12期 光学精密工程 V01．16No．12 andPrecision 2008年12月 Optics Engineering Dec．2008 文章编号1004—924X(2008)12-2497—06 空间RB—SiC反射镜的表面离子辅助镀硅改性技术 徐领娣1’2，郑立功1，范镝1，张学军1，王加朋1’2 (1．中国科学院长春光学精密机械与物理研究所，吉林长春130033； 2．中国科学院研究生院，北京100049) 摘要：针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由SiXSiC两相结构引起的光学表面缺陷问题，提出了表面离子辅助沉积 示：IAD-Si膜层为非结晶结构，能够提供较好的抛光表面，在77～673K的热冲击下膜层稳定性良好。以Si膜的抛光机 理为依据，对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试，给出了关键的抛光工艺参数和实验结果。通过 nm) 100 且表面粗糙度RMS值o．5nITi的超光滑表面；与改性前相比，反射镜改性层抛光表面在360～1nm波段的反射率 提高了4．5％以上。 关键词：反应烧结碳化硅；表面改性；岛子辅助沉积硅；表面反射率 中图分类号：TH703；0484．1文献标识码：A onRI}SiCmirrorfor IAD-Simodification surface space super-polished XU Dil，ZHANG Ling—dil”，ZHENGLi—gon91，FAN Xue-junl，WANGJia～pen91’2 Institute Mechanicsand ofOptics，Fine Physics， (1．Changchun Chinese 130033，China； AcademyofSciences，Changchun 2．Graduate Chinese Academyof 100049，China) Universityof Sciences，Beijing surface1imitationcausedSilicon inRB-SiC rela- Abstract：Toeliminate mirrors，a by impurity apace thick onwellfinishedRB-SiCsubstrateionassisted tively Sifilmisdeposited by to abetter ofRB—SiCsurface issum— processprovide polishablesurface．Firstly，Theprocess coating marized。onthe of