糖类化合物合成中常用保护基的脱除.doc

糖类化合物合成中常用保护基的脱除 2008-12-04 17:00 一、苄醚类除了极少情况下以外，苄基在寡糖合成中是作为永久性保护基的，最后可以催化氢化脱去。而在苄基苯环的邻对位附加一些基团可以使其具有一定的选择性。 对氨基苄基类：对三甲基乙酰胺基苄基（PAB），酸稳定，用2，3-二氯-5，6-二氰-1，4-二苯醌氧化除去。 对叠氮基苄基（Azb）和对叠氮基间氯苄基（ClAzb）：氧化断裂，在酸性环境下稳定，转化为氨基正离子后便可通过氧化选择性的离去。对卤基苄基：与苄基一样稳定，经过钯催化氨化后很容易就被质子酸或路易斯酸除去，后来Wong引入了纳米钯使得苄基从树脂上选择性的脱下成为可能。改成卤素取代基，又可以增加此类基团的选择性。 以上所有新的苄基保护基，在寡糖合成中能作为临时保护基，被选择性脱除，它们也已经在固相合成复杂寡糖和和支链糖结构中，作为临时保护基得到应用 二、碱不稳定保护基 乙酰基(Ac)，苯甲酰基(Bz)和三甲基乙酯(Piv)保护基：作为具有邻基参与基团功能的保护基，被广泛用于寡糖固相合成。用过量的甲醇钠即可脱去，在很短时间内能定量地得到游离羟基.三甲基乙酯(Piv)作保护基偶联时没有酰基迁移和原酸酯现象，脱保护可以用甲醇钠。在可溶性聚合物载体上，也有报道用1，5-二氮双环[5.4.0]-十一-5-烯（DBU）或Hünig碱的，还有用胍和盐酸的。 氯乙酰基(CA)：可以在甲氧基乙醇中用硫脲脱去。 苯氧乙酰基：在CPG上合成寡糖时用过量的胍反复处理便可脱去 乙酰丙酯(Lev)：作为保护基可以促进a选择性，脱保护用甲醇钠，醋酸缓冲的肼也可以将其选择性脱去。能和9-芴-甲氧基酰基（Fmoc）在固相合成上联用。 三氯乙氧基酰基(Troc)：可用甲醇钠脱去。在活化锌相对温和的条件下也可以脱去。9-芴-甲氧基酰基(Fmoc)：很早就在肽合成里作为氮保护基，最近在寡糖固相合成里也得到了广泛应用，可用20%三乙胺脱去，肼和醋酸的二氯甲烷/甲醇溶液也可以将其脱去， 而对保护基乙酰丙酯（Lev）没有影响。 邻苯二甲酰基(Phth)：只有这一氨基保护基现在被广泛用于寡糖固相合成，缺点是强碱条件下部分分解，另外，它在C-2位时会降低C-3位羟基糖基化速率，以氨基甲酸酯形式存在的N保护基三氯乙氧基酰基（Troc）则避免了这些缺点，糖基化产率比相应用邻苯二甲酰基保护的高。N-三氟乙酰基：用氢氧化锂（甲醇-四氢呋喃）脱保护。二硫琥珀酰基(Dts)、叠氮基和芳硫氨基也能作氨基保护基。 三、酸不稳定保护基 由于偶联环境经常是酸性的，所以酸不稳定保护基比碱不稳定保护基用得少，以下列出应用这类保护基以及脱保护试剂的例子： 二甲氧基三苯甲基(DMT)：2%二氯乙酸（CH2Cl2）脱除 三苯甲基(Tr) ：4%TFA（CH2Cl2）脱除4,6-苄叉基：60%乙酸脱除乙氧乙醚：催化量的对甲苯磺酸脱除 四氢吡喃：冰醋酸（THF）脱除 1-甲基-1’-环丙烷基甲基（MCPM）：10% TFA/CH2Cl2脱除。 四、硅醚保护基 硅醚保护基离去方便，所用的去除条件一般不影响其他保护基，所以是很受欢迎的一类临时保护基。以下列出的是用在固相寡糖合成上的这类保护基以及脱保护试剂： 叔丁基二甲基硅醚（TBDMS）：氟化氢/吡啶脱伯羟基保护基；氯化氢/甲醇脱伯羟基保护基；四丁基氟化铵（TBAF）脱仲羟基保护基。 三异丙基硅醚（TIDS）：四丁基氟化铵（TBAF）脱伯羟基保护基。 叔丁基二苯基硅醚（TBDPS）：氟化氢/吡啶脱除：三乙基硅醚（TES）：氟化氢/吡啶脱除 五、 其它保护基 除了上述几大类保护基以外，为满足高度支化的寡糖结构合成的需要，其它一些互不干扰的特殊保护基团也得到了开发。 烯丙基醚保护基：用Ir{(COD)[PCH3Ph22]}PF6以及Pd类多种复合化合物脱除。 硼二酯：水解脱除。 4-叠氮基-3-氯苯基（ClAzb）：用三苯基磷还原后，在酸性或氧化下脱除 有机缩写(2007-04-28 22:12:26) 标签： 科学? 分类： 化学 ?缩写词9-BBN 9-borabicyclo[3.3.1]nonane 9-硼杂双环[3.3.1]壬烷Ac acetyl 乙酰基AIBN 2,2’-azobisisobutyronitrile 2,2’-偶氮二异丁腈AIDS acquired immunodefiency syndrome 爱滋病Ar aryl 芳基AcCl acetyl chloride 乙酰氯AD asymmetric dihydroxylation 不对称双羟基化tert-AmOH tert-amyl alcohol = 2-methyl-2-butanol 2-甲基-2-丁醇B