露光(黄光)制程介绍.ppt

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* Page * 微影製程簡介(黃光) Photolithigraphy 2014.04 顏色名 波長 紫 380–450 nm 藍 450–495 nm 綠 495–570 nm 黃 570–590 nm 橙色 590–620 nm 紅 620–750 nm 光阻不被反應 人員作業安全 黃光--最佳作業光源 何謂黃光 可見光波長:電磁波380~780 nm(一般人眼可見光400~700nm) 光阻可被反應範圍:500nm以下(見下頁說明) 可見光範圍 光阻可反應之範圍 380nm 780nm 光阻吸收光譜 以乾膜吸收為例: 乾膜-1 乾膜-2 乾膜-3 安全範圍-450nm 最易感光範圍-310 nm 最易感光範圍-360 nm 最易感光範圍-310、355 nm 安全範圍-470nm 安全範圍-460nm 簡單來說: 光阻於波長500nm以下會產生 反應(Cross- Link) 壓膜 曝光 顯影 蝕刻 流程: 去膜 PET ITO Meterial Metal PET ITO Metal Dry film Light mask 曝光 Dry film 壓膜 曝光 顯影 蝕刻 去膜 Metal Pattern成形 Metal Layer 蝕刻 微影製程(Photolithigraphy) 微影技術:將設計好的圖案從光罩上轉印到材料表面的光阻上時所使用的技術 等於印刷 油墨or可剝 以負型光阻為例 Dry Film製作優勢 細線路呈現: 以印刷製作線路,因印刷易有溢膠現象,導致線路呈現曲折狀;且因網板印刷限 制,線路無法製作Fine Pitch(50um以下)之Pattern。 以Dry Film製作線路,因Dry Film高解析之特性,Fine Pitch之Pattern製作容易呈現 且利用光罩曝光製作線路,可輕易呈現筆直狀態。 印刷製作 Dry film製作 線路曲折 線寬較大(80um) 線路筆直 線寬較細(35um) 光阻(Photo resist)種類介紹 光阻成分:溶劑、樹脂、光活性化合物。 溶劑--可讓光阻保持溶液狀態使光阻可以旋舖方式塗佈在基板上。 樹脂--提供光阻的粘著性、抗蝕刻能力,並可被鹼性顯影液分解。 光活性化合物—對特殊光線具有靈敏性,又稱為感光劑。 光阻種類(依特性): 正光阻 (曝光處裂解) 負光阻√ (曝光處聚合) 光阻種類(依狀態): 液態光阻 乾膜√ 正行 正型光阻 負型光阻 Original 曝光 (照光處) 顯影 長鏈(強壯) 短鏈(弱) 裂解 聚合(Cross Link) 曝光處—洗掉光阻 曝光處—光阻留著 光罩/底片 曝光 顯影後 負光阻 紫外線 正光阻 基板 基板 基板 光阻 基板 光阻 正負光阻Pattern說明 正光阻優點:高解析(解析能力3um)、負光阻(乾膜解析約15 um) 負光阻優點:便宜 底片製作說明RD、繪圖必知 底片組成:PET+藥膜 底片製作流程: 快速記憶?PET上正型光阻+曝光+顯影 PET?塗藥膜(正型光阻)?雷射繪片(曝光)?顯影?乾燥 PET 藥膜 底片構造 YLO出圖 正片 負片 For 正型光阻、印刷製程 For 負型光阻(現行黃光製程) 底片發包專用術語RD、繪圖必知 製程 正/負片 解析度(dpi) 藥膜上/下 字正/反 價格(元/張) 印刷 正片 8000 膜上 字正 800 原-黃光 負片 40000 膜下 字正 1800 Layer-1 (細線路) 負片 40000 膜下 字正 1800 Layer-2 (OC) 負片 8000 膜下 字正 800 說明: 1. 正/負片—視光阻型式決定(正型開正片、負型開負片) 2. 解析度—視線路解析決定(50um以下?40000 dpi) (50~150um?25000 dpi) (150um以上?8000 dpi) 3. 藥膜上下—視曝光底片與基材接觸面而定 PET 藥膜 底片構造 乾膜保存期限 乾膜保存期限與儲存溫度關係: 保存時間 (天) 以30℃/90%為例,乾 膜儲存時間僅2.5天 以10℃/90%為例,乾 膜儲存時間可達200天 乾膜保存最佳溫度5~10℃,保存時

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