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9.2欧姆接触 金属与p型半导体非整流接触的理想情况 使p型半导体表面更p * 9.2欧姆接触 前述没有考虑界面态的影响.实际由于界面态的影响,很难很好的形成欧姆接触. 上半部为受主态,位于EF下时带负电 (图9.11b) 下半部为施主态,位于EF上时带正电 (图9.13b) 因此,实际的欧姆接触采用隧道效应 * 9.2欧姆接触 隧道效应 100埃左右 隧道电流: 隧道电流随掺杂浓度的增大而指数增大。 * 接触电阻值 整流接触: 欧姆接触(隧道效应): Rc随Nd呈指数规律变化。 9.2欧姆接触 * 9.3异质结 能带图 异质结的分类: 反型异质结;nP结,Np结, 大写字母表示较宽带隙材料。 同型异质结:nN结,pP结 有用的异质结,两种材料的晶格常数必须匹配。 * 9.3异质结 接触前 接触后, 电子从n—p; 空穴从p—n; N区存在正空间电荷区; P区存在负空间电荷区; 能带发生弯曲; * 接触后 9.3异质结 * 9.3异质结 nN结热平衡时理想能带图(三角势阱) GaAs AlGaAs 二维电子气:电子堆积在异质结表面的势阱中,沿垂直于表面方向的运动变得量子化,即它的能量只能取一系列的分立值;而平行于表面的运动仍是自由的,能量可以是任意值。 * 9.3异质结 三角形势阱 z x y 低掺杂 散射小 * 9.3异质结 IV特性 类似整流接触 Ew为有效势垒高度 * 小结 金半接触——整流接触;势垒高度的计算; 外加电压存在时,肖特基势垒的变化; 肖特基势垒二极管的理想I-V关系; 肖特基二极管与pn结二极管的区别; 电子亲和准则:在一个理想的异质结中,导带处的不连续是由于两种半导体材料电子亲和能的不同引起的。 * END * 金属半导体和半导体异质结 概念:同质结、异质结、金半结、欧姆接触 同质结:同材料PN结 异质结:不同材料PN结 金半结:金属与半导体接触(肖特基势垒二极管) 欧姆接触:没有整流效应的接触 功函数:电子溢出表面吸收的最小能量。 金属的功函数: 半导体的功函数: 电子亲和能 * 9.1肖特基势垒二极管 * 9.1肖特基势垒二极管 肖特基势垒: 内建电势差: * 9.1肖特基势垒二极管 正反偏 突变结近似 * 9.1肖特基势垒二极管 非理想因素 肖特基效应:势垒的镜像力降低 界面态的影响 * 9.1肖特基势垒二极管 非理想因素 肖特基效应:势垒的镜像力降低 * 9.1肖特基势垒二极管 非理想因素 与理想不符 χ=4.07eV χ=4.01eV * 9.1肖特基势垒二极管 非理想因素 界面态的影响 施主型表面态:能级释放电子后显正电性。 受主型表面态:能级接受电子后显负电性。 * 与pn结不同,主要靠多数载流子的运动来决定电流的情况。 热电子发射理论: 势垒高度远大于kT时,电流的计算可以归纳为计算超越势垒的载流子数目。 9.1肖特基势垒二极管 电流电压关系 * 9.1肖特基势垒二极管 电流电压关系 半导体内单位体积中能量在E~E+dE范围内的电子数为: 有效理查德森常数 * 9.1肖特基势垒二极管 电流电压关系 反向电流随反偏电压的增加而增加是由于势垒降低的影响。 * 9.1肖特基势垒二极管 与PN结比较 区别1.反向饱和电流的数量级 肖特基势垒二极管的反向饱和电流密度: 理想pn结二极管的反向饱和电流密度: 1、电流输运机构不同。 2、反向电流输运机构不同密度不同。pn结二极管的反偏电流主要由产生电流支配,~10-7A/cm2,比肖特基二极管小2~3个数量级。 * 9.1肖特基势垒二极管 与PN结比较 0.3V 0.7V * 9.1肖特基势垒二极管 与PN结比较 区别2 开关特性 pn结二极管靠少子扩散运动形成电流,外加正偏电压时少子首先形成一定的积累,再靠扩散运动形成电流。 肖特基二极管的电流取决于多子通过内建电势的发射电流。外加正偏电压时直接形成漂移电流流走。 * 9.2欧姆接触 欧姆接触是接触电阻很低的结,理想状态下,欧姆接触所形成的电流是电压的线性函数。 两种欧姆接触: 使表面不产生势垒的接触 隧道效应 * 9.2欧姆接触 使表面不产生势垒的接触 使N型半导体表面更N,不上坡,下坡 * 9.2欧姆接触 *
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