TFTLCD制造工艺课件.ppt

Fringing Field Switching (FFS) No dead zone prohibiting transmittance IPS模式下控制液晶分子排列状态的电场是通过下基板上相应电极施加的；由于相邻电极之间的距离比普通TN模式液晶盒的上下玻璃基板更大，这就导致在相同驱动电压下两电极之间的电场强度相对较弱（与普通TN模式相比），其结果就是响应速度变慢。若要提高响应速度，就必须加大驱动电压，从而使功耗增大。 3 MVA模式 多畴垂直取向模式 一、 VA模式 VA模式在不加电压时，液晶分子垂直于基板表面排列； 使用负性液晶； 非选择态 经起偏器得到的线偏光就可以不受任何影响的穿过液晶层，到达检偏器。 上下偏振器正交设置，线偏光将完全被检偏器阻挡得到的“纯黑显示”状态与视角无关。 这种“纯黑状态”使得VA模式的对比度大大提高。 选择态 在电极和公共电极之间施加电场作用； 具有-Δε的液晶分子将转向与该电场垂直的方向排列； 通电后产生液晶分子旋转，一部分光从检偏器射出，得到亮态显示。 与TN模式相比黑态更黑 ?灰度等级更多 与TN模式相比，由于VA模式去掉了液晶分子的扭曲结构，工作时液晶分子的排列状态只在水平和垂直两种状态之间变换，所以VA模式的响应速度大大高于普通TN模式。 阈值特性非常陡峭；可用于大容量直接矩阵显示器。 VA模式的电光特性曲线在靠近阈值部分基本没有色分离。在垂直入射光情况下，可在屏法线方向获得极好的黑白显示。 与普通TN模式一样，在产生灰阶图像显示时VA模式同样存在着视角范围窄及视角方位不对称的缺陷。 二、 MVA模式 普通的单畴VA模式，为获得中间灰阶显示，液晶分子需均匀倾斜排列，正是液晶分子的这种均匀倾斜排列使得液晶分子的表观长度出现了视角相依性，从而导致了视角问题的出现。 观察角度不同,获得的亮度不同 为了解决这个问题，采用分割像素法。分割像素法的最主要特点是控制每个像素中的液晶分子沿多个方向倾斜排列，这样液晶分子具有对称取向，在光学上得到互补，从而解决了液晶分子表观长度的视角相依性。 双畴垂直取向模式 采用双畴取向的液晶盒的视角特性图 视角达到±40o也未出现阶调反转， 其等对比度视角范围为枕形结构，而且等对比度为10的上下视角范围还比较窄。 为进一步改善视角特性，以便在所有方向都获得较好的对比、亮度和色饱和度，需引入了多畴取向技术。 采用4分割像素法，即产生4畴，即可展宽上下、左右视角范围，而且上下、左右具有几乎相同的对称视角范围。 理论和实践表明，即使把像素分割数增加到4分割以上，其视角特性已无多大改进，而且4分割之后已观测不到阶调反转现象。 2.多畴取向的实现 在普通TN模式中，利用单纯的摩擦取向技术就可以使液晶分子获得稳定的单畴及双畴取向。但随着畴数增多，对取向精度要求越来越高，此时传统的摩擦取向技术已经无法适应批量生产的要求。为了改变这种现状，富士通公司开发了一种不需要摩擦的特殊取向技术：在基板上设置一层脊状小凸起。 自动成畴技术（ ADF技术）要点： 不加电时，使大部分液晶分子垂面排列（小凸起处少数分子在坡面的作用下发生略微倾斜）； 当施加电压时，小凸起周围将获得倾斜电场，首先使得位于小凸起坡面上的液晶分子1和1’按图示的方向旋转，受1和1’旋转的影响，处于小凸起周围的液晶分子（下图中的2、2’，3、3’和4、4’）也朝和1、1’相同的方向旋转，这样液晶盒内所有液晶分子就可以获得稳定的双畴取向。我们将这种取向技术称为ADF(Automatic Domain Formation：自动成畴)技术。 TFT-LCD制造工艺 液晶盒外侧有两片偏振片； 上基板处的偏振片称为起偏器，下基板处的偏振片称为检偏器。 Cell of a TN AMLCD (2) 观察角度不同,获得的亮度不同 在饱和电压作用下液晶分子为混合取向，要得到充分补偿，补偿膜中的光轴取向最好满足相应的分布。 With WV Film Compensation: Narrow Viewing Angle Wider Low Contrast Ratio Higher Gray Level Inversion Still with Gray Level Inversion Moderate Color Shift Worse 2、IPS模式 一、IPS模式的结构 IPS是“In Plane Switching”（共面开关）的缩写，IPS模式是又一种获得广泛应用的广视角模式。 IPS模式把这一对电极都制作在下基板上（上基板无电极），通过控制加在这一对电极之间的横向电场来控制液晶分子的排列。所以IPS模式也称为横向电场模式。 ?In-pl