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项目一 晶体硅太阳电池制造工艺; 通过前面的学习,我们掌握了半导体的一些理论知识,了解了由石英砂到硅片的加工过程。但是,硅片的制备目的是什么呢?主要是为了下一步晶体硅电池片的制备。晶体硅太阳电池的制备工艺有哪些呢?从今天开始我们就进行这些方面的学习。;1、掌握所用硫酸、硝酸、氢氟酸、氢氧化钠、三氯氧磷等药液的特性,所发生的化学方程式。
2、掌握晶体缺陷的类型。
3、掌握材料的光学特性。
4、了解半导体的欧姆接触特性。; 通过学习,了解制绒、扩散、刻蚀、PECVD、电极制备等设备的结构,并且会进行基本的操作。掌握椭偏移、冷热探针、电子天平秤、电子显微镜等检测设备的使用方法,并且能够通过检测数据判断制备工艺的合格与否。;任务一 硅片的清洗制绒;任务一 硅片的清洗制绒; 选择恰当的制绒试剂是制绒好坏的关键, 根据不同的硅片正确选择试剂;通过学习,掌握制绒的整个流程及其原理。;1、除去来料表面的机械损伤层;
2、除去表面的有机物,金属杂质;
3、在硅片两个表面形成一层绒面(或者表面织 构化)以增加硅片对光的吸收,降低反射 ;一、晶体硅表面的反射原理
二、单晶与多晶制绒区别
三、单晶硅片的制绒
四、多晶硅片的制绒;一、晶体硅表面的反射原理:; 晶体硅太阳电池一般是利用硅切片,由于在硅片切割过程中损伤,使得硅片表面有一层10~20μm的损伤层,在太阳电池制备时首先需要利用化学腐蚀将损伤层去除,然后制备表面绒面结构。; 对于单晶硅而言,选择择优化学腐蚀剂的碱性溶液,就可以在硅片表面形成金字塔结构,称为绒面结构,
由不同晶粒构成的铸造多晶硅片,由于硅片表面具有不同的晶向,利用非择优腐蚀的酸性腐蚀剂,在铸造多晶硅表面制造类似的绒面结构,增加对光的吸收。;单晶制绒后显微镜观测图
; 在低浓度NaOH水溶液中,硅片表面发生腐蚀,产生密集的金字塔型角锥体结构。大多使用廉价的浓度约为1%的氢氧化钠稀溶液来制备绒面硅,腐蚀温度为70-85oC化学反应方程式:
Si+2NaOH+H2O=Na2SiO3+2H2↑;(二)制绒前后的绒面;(三)??晶制绒工艺流程 ;一共有10个槽,5、6、8、10槽中是去离子水
异丙醇(Isopropanol IPA)(CH3)2CHOH 表面湿润作用
Na2SiO3·9 H2O作用:表面活性剂,以加快硅的腐蚀。
氢氟酸作用:去除硅表面的硅酸钠以及氧化物。主要反应方程式为:
Na2SiO3(无色粘稠的液体)+2HF===H2SiO3 (不溶于水的白色胶状物)+2NaF
SiO2+6HF===H2SiF6+2H2O
盐酸作用:去除硅片表面的金属离子。;1、插片
(1)片盒保持干净,片盒底部衬以海绵,将硅片插入片盒中,每盒最多插25片硅片。
(2)禁止手与片盒、硅片直接接触,必须戴塑料洁净手套或乳胶手套操作。每插100张硅片,需更换手套。
(3)操作中严禁工作服与硅片和片盒接触。;
;2、上料
(1)硅片插完后,取出片盒底部的海绵,扣好压条。化学药剂称重上料
(2)将已插好硅片的片盒整齐、有序的装入包塑的不锈钢花篮中,片盒之间有适当的间隔。;3、参数设置
加热制绒液体到设定温度以后,根据本班目标生产量在控制菜单上进行参数设置(包括粗抛、碱蚀、喷淋、鼓泡漂洗时间和产量的设置)。;4、甩干
从槽中取出硅片,然后把盛放硅片的花篮放在甩干机中甩干,根据实际情况设定甩干时间。往甩干机机中放置硅片时,要把放置的花篮对称放置,以防甩干机工作时运转不稳。;5、检测
清洗好的硅片要对减薄量和绒面进行检测。
所用仪器是:
电子天平秤和电子显微镜。;化学腐蚀液的配制、添加;制绒的设备;(四)影响单晶制绒的因素;(5)硅对碱的择优腐蚀是金字塔形成的本质,缺陷、沾污、异丙醇及硅酸钠含量会影响金字塔的连续性及金字塔大小。
(6)绒面形成最终取决于两个因素: 腐蚀速率及各向异性。
;2、腐蚀速率快慢影响因子
(1)腐蚀液流至被腐蚀物表面的移动速率;
(2)腐蚀液与被腐蚀物表面产生化学反应的反应速率;
(3)生成物从被腐蚀物表面离开的速率。;(一)原理(酸性制绒);化学反应方程式:
Si+4HNO3H+H2O=SiO2+4NO2↑+2H2O
SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O (易挥发的四氟化硅气体 )
SiF4+2HF=H2SiF6(可溶、易挥发);绒面;四、多晶硅片的制绒;1、二号制绒槽:;2、四号碱洗槽;槽内结构;我校学生在进行下料收片;4、多晶制绒注意事项;我校学生在进行制绒操作;任务二 扩散制结; 扩散制结是电池片制造中至
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