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●半导体的晶体结构和电子状态;本课程主要内容(2);主要中文参考书;主要英文参考书;前言;一、什么是半导体?;●电阻率
;;●电子激发能隙
导体:Eg ~ 0 例如: Eg (Cu) ~ 0 eV
绝缘体: Eg ? 3 eV 例如: Eg (SiO2)=8.0 eV
半导体: 0 ? Eg ? 3 eV 例如: Eg (Si) =1.12 eV
;例外;二、半导体材料的分类;按组成分:; 1.无机半导体晶体材料;Ge;化合物
半导体;★过渡金属氧化物半导体:有ZnO、SnO2、V2O5、Cr2O3、Mn2O3、FeO、CoO、NiO等。
★尖晶石型化合物(磁性半导体):主要有CdCr2S4、CdCr2Se4、HgCr2S4等。
★稀土氧、硫、硒、碲化合物:有EuO、EuS、EuSe、EuTe 等。; (1)非晶Si、非晶Ge以及非晶Te、Se元素半
导体
(2)化合物有GeTe、As2Te3、Se4Te、
Se2As3、As2SeTe非晶半导体;有机半导体;三、半导体材料的地位;四、半导体的发展;
1874年 F.Braun
金属-半导体接触
;第一个点接触??的晶体管 (transistor);1955年德国西门子
氢还原三氯硅烷法
制得高纯硅;1963年
用液相外延法生长
砷化镓外延层,
半导体激光器;分子束外延MBE;几种主要半导体的发展现状与趋势;Si单晶;● GaAs和 InP单晶;● 研制直径3英寸以上大直径的InP 单晶的关键技术尚未完全突破,价格居高不下。;●半导体超晶格、量子阱;目前硅基材料研究的主流:
GeSi/Si应变层超晶格材料 ? 新一代移动通信。;●一维量子线、零维量子点;1994年,俄德联合小组首先研制成功
InAs/GaAs量子点材料,
1996年,量子点激光器室温连续输出功率达
1W,阈值电流密度为290A/cm2,
1998年,量子点激光器室温连续输出功率达
1.5W。;2000年初,中科院半导体所研制成功室温
双面CW输出3.62W、工作波
长为960nm左右的量子点激
光器,为目前国际报道的最好
结果之一。;1998年,Yauo等人采用0.25mm工艺技术
实现了128Mb的单电子存储器原
型样机的制造,这是单电子器件
在高密度存储电路的应用方面迈
出的关键一步。;●宽带隙半导体材料;● 高频大功率、耐高温、抗辐射半导体微电子
器件和电路的理想材料
● 通信、汽车、航空、航天、石油开采及国防;Cree公司6H-、4H-SiC单晶尺寸随年度的变化
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