半导体制造工艺_05光刻(下).pptx

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光刻胶的一些问题;2、下层反射造成驻波,下层散射降低图像分辨率。;驻波对于光刻图形的影响;光刻步骤简述;光刻步骤详述;硅片对准,曝光;坚膜:10~30 min,100~140 ?C;Stepper Scan System;图形转移——刻蚀;图形转移——剥离(lift-off);去胶 溶剂去胶 (strip):Piranha (H2SO4:H2O2)。 正胶:丙酮;光源;248 nm;2、Reducing resolution factor k1;Alternating PSM Attenuated PSM ……;2.光学光刻分辨率增强技术(RET) ;OPC实例;3、离轴照明技术 OAI (off-axis illumination);Mask design and resist process;Lens fabrication;21;22;EUV;Minimum feature size ;EUV(Extreme ultra violet);反射式掩模版;电子束图形曝光;光栅扫描(左)和矢量扫描;电子束光刻问题:1)速度慢!;电子束光刻问题:2)电子散射及二次电子:线条宽束斑;电子束源: 热电子发射 场发射 光发射;电子束抗蚀剂;邻近效应;X射线图形曝光(XRL);35;X射线图形曝光的几何效应;离子束图形曝光;不同图形曝光方法的比较;各种图形曝光技术的比较如下;光刻总结;1、有时候读书是一种巧妙地避开思考的方法。5月-205月-20Sunday, May 24, 2020 2、阅读一切好书如同和过去最杰出的人谈话。12:30:3712:30:3712:305/24/2020 12:30:37 PM 3、越是没有本领的就越加自命不凡。5月-2012:30:3712:30May-2024-May-20 4、越是无能的人,越喜欢挑剔别人的错儿。12:30:3712:30:3712:30Sunday, May 24, 2020 5、知人者智,自知者明。胜人者有力,自胜者强。5月-205月-2012:30:3712:30:37May 24, 2020 6、意志坚强的人能把世界放在手中像泥块一样任意揉捏。24 五月 202012:30:37 下午12:30:375月-20 7、最具挑战性的挑战莫过于提升自我。。五月 2012:30 下午5月-2012:30May 24, 2020 8、业余生活要有意义,不要越轨。2020/5/24 12:30:3712:30:3724 May 2020 9、一个人即使已登上顶峰,也仍要自强不息。12:30:37 下午12:30 下午12:30:375月-20 10、你要做多大的事情,就该承受多大的压力。5/24/2020 12:30:37 PM12:30:3724-5月-20 11、自己要先看得起自己,别人才会看得起你。5/24/2020 12:30 PM5/24/2020 12:30 PM5月-205月-20 12、这一秒不放弃,下一秒就会有希望。24-May-2024 May 20205月-20 13、无论才能知识多么卓著,如果缺乏热情,则无异纸上画饼充饥,无补于事。Sunday, May 24, 202024-May-205月-20 14、??只是自己不放过自己而已,现在我不会再逼自己眷恋了。5月-2012:30:3724 May 202012:30

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