GB/T 6624-2009硅抛光片表面质量目测检验方法.pdf

犐犆犛２９．０４５ 犎 ８０ 中华人 民共和 国国家 标准 ／ — 犌犅犜６６２４ ２００９ 代替 ／ — ＧＢＴ６６２４ １９９５ 硅抛光片表面质量目测检验方法 犛狋犪狀犱犪狉犱犿犲狋犺狅犱犳狅狉犿犲犪狊狌狉犻狀 狋犺犲狊狌狉犳犪犮犲 狌犪犾犻狋 犵 狇 狔 狅犳狅犾犻狊犺犲犱狊犻犾犻犮狅狀狊犾犻犮犲狊犫 狏犻狊狌犪犾犻狀狊犲犮狋犻狅狀 狆 狔 狆 ２００９１０３０发布 ２０１００６０１实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 ／ — 犌犅犜６６２４ ２００９ 前 言 　　 本标准代替 ／ — 《硅抛光片表面质量目测检验方法》。 ＧＢＴ６６２４ １９９５ 　　 本标准与原标准相比主要有如下变化： ———修改了高强度汇聚光源照度要求，由不小于 １６０００ｌｘ改为不小于２３００００ｌｘ； ———增加了净化室级别要求； ———扩大了照度计测量范围为０ｌｘ ３３００００ｌｘ； ～ ———增加了测量长度工具； ———更改检测条件中光源与硅片之间的距离要求。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会提出。 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会归口。 本标准主要起草单位：上海合晶硅材料有限公司。 本标准主要起草人：徐新华、王珍。 本标准所替代标准的历次版本发布情况为： ——— ／ — 、 ／ — 。 ＧＢＴ６６２４ １９８６ＧＢＴ６６２４ １９９５ Ⅰ ／ — 犌犅犜６６２４ ２００９ 硅抛光片表面质量目测检验方法 １ 范围 　 本标准规定了在一定光照条件下，用目测检验单晶抛光片（以下简称抛光片）表面质量的方法。 本标准适用于硅抛光片表面质量检验。外延片表面质量目测检验也可参考本方法进行。 ２ 规范性引用文件 　 下列文件中的条款通过本标准的引用而成为本标准的条款。凡是注日期的引用文件，其随后所有 的修改单（不包括勘误的内容）或修订版均不适用于本标准，然而，鼓励根