GB/T 13388-2009硅片参考面结晶学取向X射线测试方法.pdf

犐犆犛２９．０４５ 犎 ８０ 中华人民共和国国家标准 ／ — 犌犅犜１３３８８ ２００９ 代替 ／ —１９９２ ＧＢＴ１３３８８ 硅片参考面结晶学取向 射线测试方法 犡 犕犲狋犺狅犱犳狅狉犿犲犪狊狌狉犻狀 犮狉狊狋犪犾犾狅狉犪犺犻犮狅狉犻犲狀狋犪狋犻狅狀狅犳犳犾犪狋狊狅狀狊犻狀犾犲犮狉狊狋犪犾 犵 狔 犵 狆 犵 狔 狊犻犾犻犮狅狀狊犾犻犮犲狊犪狀犱狑犪犳犲狉狊犫 犡狉犪 狋犲犮犺狀犻狌犲狊 国家标准ㅤ可打印ㅤ可复制ㅤ无水印ㅤ高清原版ㅤ去除空白页 狔 狔 狇 ２００９１０３０发布 ２０１００６０１实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 ／ — 犌犅犜１３３８８ ２００９ 前 言 　　 本标准修改采用 《硅片参考面晶向 射线测试方法》。 ＳＥＭＩＭＦ８４７０７０５ Ｘ 　　 本标准与 ＳＥＭＩＭＦ８４７０７０５相比，有以下不同： ———将 ＳＥＭＩ标准中引用的部分国际标准，采用直接引用对应的我国标准； ———主要格式内容按 ／ 的要求编排。 ＧＢＴ１．１ 本标准代替 ／ — 《硅片参考面结晶学取向 射线测试方法》。 ＧＢＴ１３３８８ １９９２ Ｘ 本标准与 ／ — 相比，主要有如下变化： ＧＢＴ１３３８８ １９９２ ———增加了方法 ———劳厄背反射 射线法； ２ Ｘ ———取消了硅片的直径和参考面长度的具体规定； ———修订前的国标中规定“该方法不适用于硅片规定取向在与参考面和硅片表面相垂直的平面内 的投影与硅片表面法线之间夹角不小于 的硅片的测量”；而 ，仅适用于角 ３° ＳＥＭＩＭＦ８４７０７０５ 度偏离从 到 的硅片； －５° ＋５° ———规范性引用文件有所增加； ———修改了精密度采用了 中通过对一个硅片进行 次（每面 次）的测量，得 ＳＥＭＩＭＦ８４７０７０５ ５０ ２５