《GB2019专用半透明衰减移掩模版及掩模基板特性描述规范》标准全文及编制说明.pdf

ISC GB 中 华 人 民 共 和 国 国 家 标 准 GB/T XXXX - 20 idt SEMI P29-0997 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 《专用半透明 / 衰减移掩模版及掩模基板特性描述规范 》 Specification for description of characteristics specific to halftone/attenuated phase shift mask and mask blanks （送审稿）/( 报批稿 ) 20XX- - 发布 20XX- - 实施 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 国家标准化管理委员会 发布 前言 本标准等同采用 1997年 SEMI 标准版本 微型构图 部分中的 SEMI P29-0997 《专用半透 明/ 衰减移掩模版及有半透明 / 衰减膜的空白掩模基板特性描述指南 》（ Guideline for description of characteristics specific to halftone/attenuated phase shift mask and mask blanks ）。 SEMI 标准是国际上公认的一套半导体设备和材料国际标准， SEMI P29-0997 《专用半透明 / 衰减移掩模版及有半透明 / 衰减膜的空白掩模基板特性描述指南 》是其中的一项，它将与如下 已经转化的十一项国际标准 : GB/T 15870-1995 《硬面光掩模基板》 (SEMI P1-92); GB/T 15871-1995 《硬面光掩模用铬薄膜》 (SEMI P2-86); GB/T 16527-1996 《硬面感光板中光致抗蚀剂和电子抗蚀剂》 (SEMI P3-90); GB/T 16523-1996 《圆形石英玻璃光掩模基板》 (SEMI P4-92); GB/T 16524-1996 《光掩模对准标记规范》 (SEMI P6-88); GB/T 16878-1997 《用于集成电路制造技术的检测图形单元规范》 (SEMI P19-92); GB/T 16879-1997 《掩模曝光系统精密度和准确度表示准则》 (SEMI P21-92); GB/T 16880-1997 《光掩模缺陷分类和尺寸定义的准则》 (SEMI P22-93) ； GB/T 17864-1999 《关键尺寸 (CD) 计量方法》（ SEMI P24--94 ）； GB/T 17865-1999 《焦深与最佳聚焦的测量规范》（ SEMI P25--94 ）； GB/T 17866-1999 《掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准 则》 SEMI P23-93 ； 以及与本标准同时转化的 《光致抗蚀剂灵敏度测量所涉及的参数规范》 （SEMIP26-96 ）、 《基 片上抗蚀剂膜厚度测量所涉及的参数规范》（ SEMI P27-96 ）、《集成电路制造中套刻检测图 形规范》（ SEMI P28-96 ）、 《专用半透明 / 衰减移掩模版及有半透明 / 衰减膜的空白掩模基板 特性描述指南》 (SEMI P29-0997) 、《用于测量关键尺寸（ CD）的扫描