湿法刻蚀(RENA)作业指导书.doc

赛维LDK太阳能高科技（合肥）有限公司 文件编号 文件名称 湿法刻蚀 作业指导书 生效日期 页码 第 PAGE 3 页 共 NUMPAGES 3 页 一、目的 建立正确操作湿法刻蚀工序的规范，以保证刻蚀的质量及保护机器和人身安全。 二、适用范围 RENA 湿法刻蚀工序的所有操作人员 三、职责 3.1、工艺技术人员 3.1.1、负责RENA刻蚀工序生产工艺运行的正常性、稳定性。 3.1.2、负责部门内工艺运行原始资料的累积，保管，随时检查工艺运行状态，并记录异常，积极处理工 艺异常。 3.1.3、负责应对RENA刻蚀设备常见、突出、重大的工艺异常，制定落实整改措施、预防措施、应急方 案。 3.2、设备技术人员 3.2.1、负责RENA刻蚀设备开关机、故障分析、设备维护及检修。 3.2.2、如有工艺需求，积极配合工艺人员调整设备硬件设置。 3.3、生产人员 3.3.1、负责依照作业指导书要求，按标准进行生产作业，掌握正确的操作方法，确保操作安全、人身安 全。 3.3.2、细心总结操作经验，发现新问题或改善建议，及时向工艺技术员汇报。 3.3.3、负责对RENA刻蚀设备进行标准、规范化操作，并配合、协助设备的日常维护工作。 四、湿法刻蚀工段标准作业流程 4.1刻蚀目的 4.1.1 在扩散过程中，硅片表面和四周都生长一层PN结，若不去除边缘的PN结，制成的电池片因为边缘漏电而无法使用。 4.1.2 4.2 生产准备 4.2 4.2.2 确保手套没有粘有油脂性物质，使用吸笔上下片，严禁用手 4.2 4.3 生产操作过程 4.3.1 从扩散与去PSG的传递窗领取硅片， 4.3.2 检查界面显示，若各模块均为绿色“Ready”和绿色＂in process＂ 4.3.3 从载片盒中拿出硅片，注意取片方式， 4.3.4 确认设备可正常使用后，把硅片轻放在滚轮上， 4.3 4.3.6 抽取每批的最后四片进行刻蚀前和刻蚀 4.3. 五、注意事项 5.1 上片时如果发现碎片、裂纹片或颜色异常的硅片及时挑出，并通知工艺人员进行处理。 5.2 生产过程中保持设备门窗关闭。 5.3 下片时观察硅片外观，发现有裂纹、碎片、未吹干、带液等情况时及时通知工艺与设备人员进行处理。 5.4 生产过程中，严禁裸手接触硅片、吸笔。 5.5 确保手套的洁净度，每400片更换一次手套，如果出现沾污或是接触过皮肤、头发等带有油脂的物品，请更换手套。 六、相关文件及记录：(无) 编 制 会审/校审 审 核 批 准