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摘 要
近年来,半导体在不同条件下费米能级的确定,以及深能级缺陷对发光效率的影响等,都受到了研究人员的广泛关注。本文中所使用的方法是以密度泛函理论为基础的第一性原理方法,采用Materials Studio 8.0中的CASTEP模块建立不同电荷的氧空位和氧间隙位的β-Ga2O3,对于不同的结构进行优化,在优化的基础上我们计算了每个结构的生成焓及形成能,并找到生成焓最低的结构,分析这些结构的晶格常数、体系总能量的变化趋势,以及形成能随费米能级的变化。得出了三种氧空位对应的缺陷能级到价带顶之间的距离分别为VO(I) =3.31eV、VO(II)=2.70eV 和VO(III)=3,57eV。以
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