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LO溅射机设备简介
提 纲
一、设备结构简介
1、设备功能及总体结构概述
2、传送系统
3 、溅射
4 、辅助系统
二、设备重要部位
1、溅射靶总览
2、直流平面
3 、RF交流平面
4 、直流旋转
三、安全
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Mo溅射机
Sputtering back
contack(Mo)
Back contact: Mo
Substrate: Glass
4
CIG溅射机
Sputtering
Sputtering back Laser scribing
Precursor
contack(Mo) (P1)
(Cu,In,Ga)
CIG
Back contact: Mo
Substrate: Glass
5
i ZnO溅射机
Sputtering back Laser scribing Sputtering Diffusion 1 Diffusion 2 Chemical bath
Precursor
contack(Mo) (P1) (H Se+Ar) (H S+Ar) (Cds)
(Cu,In,Ga) 2 2
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