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1.2.3 导光板技术的发展概况
作为新兴技术产业,导光板成为国内外研究者们所关注的对象。在
过去的十几年,很多企业和研究院在该技术上投入了大量的人力和物
力,并取得了诸多的研究成果[48]。深圳大学徐平等人提出了一种新型一
体化导光板[49],这种导光板将背光模组中各个构件的作用都集成在了一
起,极大地降低了背光模组的厚度,并取得了与传统背光模组一样的导
光性能[50, 51];日本也提出一种可减小背光厚度的导光板,这种导光板的
特点在于它的上表面刻有一层 V 沟槽结构[52],这种导光板上面再加一张
逆棱镜膜就可起到原来两张棱镜膜的作用;台湾 Chao Heng Chien 等人提
出一种新型双面微结构导光板,这种导光板的下表面刻有非规则排布的
微棱镜结构,上表面刻有规则排布的微棱锥结构,两种结构相辅相成,
从而提高导光板的表面均匀度,减小光能的损耗率[53];台湾的Ko-Wei
Chien 等人还提出了一种亚波长光栅导光板[54],这种导光板的顶部有一
层亚波长光栅,它的作用是过滤一定方向的光线,而其他光线则可以通
过导光板下方的 1/4 波片和反射片继续回到导光板中,若是满足方向的
要求,则又可以经亚波长光栅透射出去。这种导光板的好处在于可以降
低光能的损耗,提高光能利用率;清华大学纳米研究所提出一种 BAPC 导
光板,这种导光板采用一种双酚 A 聚碳酸酯(BAPC)制成,这种材料有
一种特性,它可以在内部产生光压,迫使光线折射的角度发生变化,从
而可以提高导光板的表面亮度[55];日本Takamitsu Okumura 提出一种高
散射导光板,这种导光板中含有一定的散射颗粒,将进入的光线通过一
定的规律进行散射,使得出射的光线更加均匀高亮[56]。
1.3 聚合物微热压印技术
1.3.1 热压印工艺过程及分类
近年来,微结构作为我们生活中的一部分 ,在很多领域都有应用。
相应的微结构成型技术逐渐引起了国内外广大研究者们的关注,并以此
取得了诸多成果[57]。在最初的研究中,机械加工和平板印刷成为了主流
成型方式,但随着这些加工方法耗时长、效率低,许多研究者们发现了
热压印成型法[58-60]。这种方法加工微结构效率高、速率快、加工质量
好,成为广大学者们所青睐的方法。
热压印(Hot Embossing Lithography,简称HEL)是纳米压印技术
中普遍采用的压印方法[61]。如图 1-6 所示,热压工艺过程由以下几步组
成:压模制备、压印结构和脱模成型。压模通常用 Si、SiO2、氮化硅、
金刚石等材料制成,并通过电子束刻印技术加工成模具;压印结构时先
将基片放置在下模板上并加热到其成型温度范围,再进行合模压印,待
到一定的时间后将温度降低到聚合物凝固点附近;最后分离压模与基
片,取出制品,为了保证制品的质量,必须以均匀的、垂直于基片的力
进行脱模[62, 63]。
图 1-6 热压印工艺流程图
Fig.1-6 The diagram of hot embossing process
热压印技术可分为以下三类:双辊式热压印技术、辊对平板热压印
和平板热压印成型技术[64]。如图 1-7 所示,双辊式热压印技术的效率最
高,它可以完成双面微结构的压印,通常用于制备大尺寸、批量产的微
结构制品。但由于这种方式加工成本高、工艺复杂,在小面积的微结构
加工领域很少使用;辊对平板热压印相比辊对辊热压印技术所需设备较
简单,可以在平板上刻制微结构,从而减少加工成本。在本文中研究的
导光板面积较小,且相对于辊对平板热压印,平板热压印技术能够制得
高精度、高复制率的微结构器件,故本文中采用的是平板热压印成型[47,
65, 66]
。
图 1-7 平板对平板、辊对平板、辊对辊压印结构图
Fig.1-7 The structure diagram of plate to plate, roll to plate, roll
to roll embossing
1.3.2 热压印技术研究现状
在古代,货币的复印就体现了这种压印技术,但由于缺少结构化的
方法,并且那
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