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表界面的分类 :气 -液;气 -固;液 -液;液 -固;固 -固表面浓度
分散度
表面形貌非均匀性
原因: 由于固体表面原子的组成、 排列、 振动状态和体相原子的不同,由于悬挂键导致的化学性质活泼, 以及周期性的势场中断导致的表面电子状态差异, 固体表面形成很多导致表面形貌非均匀性的元素。
位错密度
表面粗糙度:
原矢
米勒指数( miller index )
晶体类型:体心立方,面心立方,简单立法表面自由能减小表面能的方法表面原子重排机理1
晶体类型:体心立方,面心立方,简单立法
表面自由能
减小表面能的方法
表面原子重排机理
1:表面弛豫作用
2:表面相转变
表面原子最近邻数
100
110
111
Fcc
8
7
9
Bcc
4
6
4
Sc
5
4
3
Wood 记号和矩阵表示
3:吸附对纯净底物表面结构的影响
层间距的变化;重组的表面结构的变化;吸附原子可以诱导表面重组内外表面
内表面:多孔或多层材料,孔内或层间的表面
比表面积:单位质量材料的表面积;用 BET方法测量
固体表面性质简介
固体表面的性质
结构特征: 不同的位置有不同的性质
表面运动: 气体分子表面撞击速度 R = P/2 蟺 mkT 1/2 ; 表面扩散系数(爱因斯坦方程) :D = x2 /2t
外延生长原子的运动流程: a 沉积 / 吸附在平台上 -deposition ;b 沉积在原子岛上; c 平
台上扩散 -diffusion ; d 脱附-desorption ; e 成核 -nucleation ; f 交互扩散 -interdifusion ; g
粘附在平台上 -attachment ; h 从平台上脱离 -detachment ; i:粘附在台阶上化学性质: 表面浓度依赖于气体分子撞击速度 R
相界面( Gibbs 界面)
表面热力学函数
其他类推: S, G, Gs
比表面自由能及温度的关系
; ;
Van der Waals and Guggenheim Equation : Where: T c 为临界温度; 为 0K し的表面张力
;
固体表面能的理论估算
金属表面张力估算
;
偏析作用
来自晶体或固溶体中的杂质或溶质在界面聚集的现象
表面偏析公式:
正规溶液参数
扩散
扩散:由热运动引起杂质原子、基质原子或缺陷输运的过程 原因:原子或离子分布不均匀,存在浓度梯度,产生定向扩散扩散机理:间隙扩散,空位扩散,环形扩散
表面扩散
靠吸附原子或平台空位的运动实现。
一维随机行走理论:表面原子通过扩散进行迁移,原子运动方向移动,每次跳跃距离等长 d,将原子加以标记,温度 T 下,净距离为 x,有 Einstein 方程
x2 = 2Dt
吸附的基本过程
1:反应物扩散到活性表面; 2 一个或者多个反应物吸附在表面上; 3 表面反应; 4 产品从表面脱附; 5 产品从表面扩散出去
吸附动力学
Rads = k px ; 其中 x 为动力学级数; p 为分压
Ea x
Rads = Aexp ( - RT ) *P
; Ea 活化能
R
Rads
= S*F;
S粘着几率;
吸附方式
F 入射分子流;
; S = f( 胃)exp ( - RT ) ;
f( 胃) 表面覆盖率函数
Ea
物理吸附: Van der Waals Force;电荷密度轻度分布
化学吸附:化学键,电子密度重排,完全离子键,完全共价键
几种元素的化学吸附
氢气( H2):没有及基地原子相互作用的电子;分子氢原子( H):氢原子及基地原子独立相互作用
-氢过渡金属复合物
卤素( F2, Cl2, Br2 , etc):以离解的方式给出卤素原子的吸附;及金属形成强的离子键
氧气( O2):在金属表面以分子形式吸附,氧分子作为 给体,金属作为 受氧原子( O):占据最高有效配体位置;强的相互作用导致表面的扭曲或者重组
!离解氧吸附是不可逆过程;加热可以导致化合物的扩散或者形成氮气( N2):低强度 M -N 键,ゆ很难破坏的 NN 三键
一氧化碳( CO):①活化表面:解离,分别形成氧化物へ碳氧化合物;② d
弱的 M -CO 分子键,加热脱附;③过渡金属:对温度へ表面结构敏感
氨气( NH3):
不饱和碳氢化合物:
化学吸附气体的排列规则
体
区金属:
1:紧密堆积:尽可能形成最小单胞
2:转动对称性ゆ基地相同
3:类似体相单胞矢量:单层(基地) ;多层(本体) 化学吸附层表面结构分类: 1:在顶上化学吸附:停留在表面,不扩散到体相内部
2:共吸附表面结构:吸附强度相近的两种气体同时吸附
3:重组的表面结构:表面原子重排,し体相的化学反应の前驱
4:无定形表面结构:
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