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化学腐蚀方法部分（部分摘录自华佑南博士培训） HB91 去poly 保留栅氧（chartered ） 配方：9HNO3+ 1BOE（13：2） 速率快 8秒~10秒 特点：快速 ，不易控制 6：6：1（Acetic acid/HNO3/HF）不建议使用 特点：快速，与氧化层一起去除 速率：150℃ 40A/min 200 ℃ 200A/min NaOH去除poly 49% HF 15min BOE 2min NaOH (1mol) 50 ℃ 20min 该方法不适合腐蚀 WSix 或CoSix的大片poly，不用KOH的原因是其有效使用时间只有15min 去poly （中芯配方） HNO3：H2O：HF（49%） =50：20：1 30‘ （70~80A/MIN） Stain 配比1 :HNO3:HF=100:5 配比2 :HNO3:HF=100:1 弹坑实验 Cratering：弹坑试验 应用：去除表面AL层，检查键合点下介质是否受损，查看合金层面积比例。 方法：1mol/L KOH溶液60度水浴加热/HCl水浴加热/王水加热 手动开封 HNO3 80度 加热: 1.玻璃或石英烧杯中倒入合适的70%HNO3; 2.在电炉上加热到约80度, 放入待开封的IC, 为防止酸雾 发散, 烧杯上盖上盖子, 加热约?分钟后; 3.使用烧杯夹将烧杯放到耐酸耐热的环氧树脂垫上冷却; 4.倒掉烧杯内的酸,用耐酸镊子将管芯取出, 5.使用有机溶剂(酒精)超声清洗干净; * * FALAB /CHENQ 2007.2.1 Bolide etch 用RIE 将IMD去除一部分，再用Bolide etch 观察M1和M2 这样M1和M2不会受plasma的损伤，用于RIE后的再处理。 PAD表面SIO2残留检查（KOH） 配方：50ml H2O +14 g KOH 方法：加热50℃ etch 20秒(有效期 15 分钟） 检查隧道效应的方法 15’ HF 2’ BOE（去尽BPSG） 20’NaOH at 50℃ 除poly（保留栅氧） 1 mol/L Remove poly 去barrier 层 H2O2 80 ℃ 8~10MIN BN+ ETCH 15MIN HF or 20MIN 5SEC BN+（3HNO3：12 CH3COOH：1HF （49%）
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