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一 、 选 择 题
1.GordonMoore 在 1965 年预言 : 每个芯片上晶体管的数目将每个月翻一番。( B)
A.12B.18C.20D.24
2.MOS管的小信号输出电阻是由 MOS管的效应产生的。( C)
A. 体 B. 衬偏 C.沟长调制 D.亚阈值导通
3. 在 CMOS模拟集成电路设计中,我们一般让 MOS管工作在区。( D)
A. 亚阈值区 B. 深三极管区 C.三极管区 D.饱和区
4.MOS管一旦出现现象,此时的 MOS管将进入饱和区。( A)
A. 夹断 B.反型 C.导电 D.耗尽
5. 表征了 MOS器件的灵敏度。( C)
A. r B. g C. g D. u c
o mb m n ox
6.Cascode 放大器中两个相同的 NMOS管具有不相同的。 (B)
A. r B. g C. g D. u c
o mb m n ox
7. 基本差分对电路中对共模增益影响最显着的因素是。( C)
A. 尾电流源的小信号输出阻抗为有限值 B. 负载不匹配
C.输入 MOS不匹配 D. 电路制造中的误差
8. 下列电路不能能使用半边电路法计算差模增益。 (C )
A. 二极管负载差分放大器 B. 电流源负载差分放大器
C.有源电流镜差分放大器 D.Cascode 负载 Casocde差分放大器
9. 镜像电流源一般要求相同的。 (D )
A. 制造工艺 B. 器件宽长比 C. 器件宽度 W D. 器件长度 L
10. NMOS管的导电沟道中依靠导电。( )
A. 电子 B.空穴 C.正电荷 D.负电荷
11.下列结构中密勒效应最大的是。( A)
A.共源级放大器 B.源级跟随器
C.共栅级放大器 D.共源共栅级放大器
12.在 NMOS 中,若 Vsb 0 会使阈值电。( A)
A.增大 B.不变 C.减小 D.可大可小
13.模拟集成电路设计中可使用大信号分析方法的是。( C)
A.增益 B.输出电阻 C.输出摆幅 D.输入电阻
14.模拟集成电路设计中可使用小信号分析方法的是。( A)
A.增益 B.电压净空 C.输出摆幅 D.输入偏置
15.下图中,其中电压放大器的增益为 -A,假定该放大器为理想放大器。请计算该
电路的等效输入电阻为。 ()
第 15 题
R R
A. B. C. R( 1 A ) D. R(1 1 A)
1 A 1 1 A
16.不能直接工作的共源极放大器是共源极放大器。( C)
A. 电阻负载 B.二极管连接负载
C.电流源负载 D.二极管和电流源并联负载
17.模拟集成电路设计中的最后一步是。( B)
A. 电路设计 B.版图设计 C.规格定义 D.电路结构选择
18.在当今的集成电路制造工艺中,工艺制造的 IC 在功耗方面具有最大的优势。( B)
A.MOSB.CMOSC.BipolarD.BiCMOS
19.PMOS管的导电沟道中依靠导电。( B)
B.电子 B.空穴 C.正电荷 D.负电荷
20. 电阻负载共源级放大器中,下列措施不能提高放大器小
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