MPCVD技术的发展历史及现状毕业论文正文.pdf

第一章 前言 化学气相沉积法 （CVD=Chemical Vapor Deposition ）合成金刚石 [1,2] 是指在低压条件 （≤ 100kPa）下，采用一定方法激活含碳气体，使其中的碳原子在基底（种晶）上过饱和沉积、 生长成金刚石。 碳源气体被激活和碳原子的沉积过程伴随着一系列化学反应， 因此这种合成 金刚石的方法被称为化学气相沉积法。要实现金刚石的化学气相沉积有几个必要条件： 1） 有碳源气体和