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光刻基础工艺培训;一、光刻工序的工艺目的及要求;二、光刻工序使用化学材料;三、光刻工艺流程;3.1受入;;;3.2前处理;
;3.3、光刻胶的涂敷及前烘;;涂胶的基本步骤：
予转，主要去除硅片表面的悬浮物
滴胶，主要将足量的光刻胶打在硅片的圆心
推胶，主要将硅片圆心的胶分布到整个硅片表面
甩胶，主要将硅片上多余的胶甩走，并且使胶膜 的厚度一致、均匀
背清，主要是去除硅片背面及正面边缘的厚胶
甩干，主要是去除多余的背清液
;光刻胶;光刻胶的性能指标;B、前烘主要是将涂敷在硅片上的光刻胶进行干燥，因为光刻胶在涂敷时是液态的（为了便于涂敷），而在后工序中硅片表面会受到一定程度的机械力，为了避免胶膜的变形，必须在热板上烘焙一下，但是也不能无限制烘焙，因为光刻胶中很重要的成分感光剂后工序还要用，如果前烘过量，感光剂挥发掉了，那光刻胶也就没用了，所以前烘的要求是选择正确的温度和时间。;;;3.4、对位曝光;对准法则;;;;;;3.5显影及后烘;;;显影的后烘;;3.6 显影检验;;;;;;3.7刻蚀（亦称腐蚀）;;;;3.8光刻胶的去除;3.9 腐蚀后检、去胶后检验;;;;;;;;
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