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压轴题二 化学工艺流程题
题型模型
化学工艺流程题结构一般包括题头、题干和题尾三部分。题头一般简单介绍以何种物质 (主
要成分是什么、含什么杂质等,要注意一些关键信息 )为原料制备哪种物质,以及物质的性
质和用途。 题干部分则是工业制备的简化工艺流程图。 题尾部分则是根据工业生产流程中涉
及到的化学知识命题者精心设计的系列问题。 对于学生解题需要的未学过的信息在三个部分
都有可能出现,审题时须全盘考虑。
考点模型
(1) 原料处理的方法和作用
①研磨:增大接触面积,加快溶解或加快反应速率。
②水浸:与水接触溶解或反应,可通过延长时间、搅拌或适当升温来加速,以提高浸出率。
③酸浸:与酸接触反应而溶解, 使可溶性离子进入溶液, 不溶物通过过滤除去。可通过适当
增大酸的浓度、升温和强力搅拌等加快反应速率。
④灼烧:除去可燃性杂质或使原料初步转化。
⑤煅烧:改变结构,使一些物质在后续过程中易溶解,并可使一些杂质 (如有机物 )在高温下
氧化、分解。
(2) 实验条件的控制和目的
①调节溶液的 pH 值:使某些离子转变为沉淀而达到分离的目的,抑制某些离子的水解,防
止某些离子的氧化等。在题目中常以表格形式给出信息。
②控制体系的温度
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a.控制低温:防止物质的分解,如 NaHCO 、NH HCO 、H O 、HNO (浓 )等;防止物质的
挥发,如盐酸、醋酸等;抑制物质的水解,如冰水洗涤,以防止洗涤过程中的溶解损耗;增
大气体反应物的溶解度,使其被充分吸收;
b.采取加热:加速某固体的溶解,加快反应速率;减少气体生成物的溶解并使其逸出;使
平衡向需要的方向移动;趁热过滤,防止某物质降温时因析出而损耗或带入新的杂质;
c .控制范围:确保催化剂的催化效果,兼顾速率和转化率,追求更好的经济效益,防止副
反应发生等。
(3)物质分离或提纯常用的化学方法
①溶解法:利用特殊溶剂把杂质溶解而除去,如 Fe(Al) 可用过量的 NaOH 溶液而除去 Al ,
2 2 2 4
CO (HCl 、H O)先通过饱和食盐水,再通过浓 H SO 。
②沉淀法: a.加合适的沉淀剂 (要使杂质离子充分沉淀, 加入的沉淀剂必须过量, 且在后续步
骤中容易除去 ) ;b.调节溶液的酸碱性。
③洗涤法: a.水洗; b.冰水洗; c.有机溶剂洗。其目的是:洗去目标物表面的杂质离子;减
少目标物的溶解损耗或增大有机杂质的溶解量; 防止目标物形成结晶水合物; 使晶体快速干
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燥。
(4) 可循环物质的判断
①流程图中回头箭头的物质
②生产流程中后面新生成或新分离的物质 (不要忽视结晶后的母液 ),可能是前面某一步反应
的相关物质。
1.钒有金属“维生素”之称,研究发现钒的某些化合物对治疗糖尿病有很好的疗效。工业
上设计将 VOSO 中的 K SO 、SiO 、CuO 杂质除去并回收得到 V O 的流程如下:
4 2 4 2 2 5
请回答下列问题:
(1) 步骤②、③的变化过程可表示为 (HM 为有机萃取剂 ):
4 2 2 4
VOSO (水层 )+2HM( 有机层 ) VOM (有机层 )+H SO (水层
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