2020年光刻胶辅助材料行业研究报告.pdfVIP

下载本文档

48
1
约1.88万字
约 23页
2021-12-03 发布于重庆
举报
版权申诉

2020年光刻胶辅助材料行业研究报告.pdf

1、本文档共23页，可阅读全部内容。
2、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

光刻胶辅助材料行业研究报告 2020年 Copyright© 内部资料，仅供会员学习使用目录 1 光刻胶辅助材料行业概况 2 光刻胶辅助材料产业链分析目录 3 光刻胶辅助材料行业市场分析 4 光刻胶辅助材料行业重点企业分析 5 光刻胶辅助材料行业发展趋势 Copyright© 内部资料，仅供会员学习使用光刻胶辅助材料行业概况—简介光刻胶的定义  光刻胶（photoresist ，国内又称光致抗蚀剂）是一类利用光化学反应进行精细图型转移的化学品。它是一种有机化合物，受紫外光曝光后，在显影液中的溶解度会发生变化。一般光刻胶以液态涂覆在硅片表面上，曝光后烘烤成固态。  光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，大大促进了光刻胶的研究开发和应用，印刷工业则是光刻胶应用的另一重要领域。光刻胶的特点分辨率对比度敏感度粘滞性粘附性抗蚀性表面张力区别硅片表面对比度越一个良好的随着光刻胶中的粘附性不保持粘附性，具有比较小相邻图形特征好，形成图图形所需一溶剂的减少而增足会导致在后续的刻蚀的表面张力，的能力，形成形的侧壁越定波长光的加，高的粘滞性硅片表面工序中保护衬使光刻胶具的关键尺寸越陡峭，分辨最小曝光量。会产生厚的光刻的图形变底表面。有良好的流小，光刻胶的率越好。胶，越小的粘滞形。动性和覆盖。分辨率越好。性就有越均匀的光刻胶厚度。 Copyright© 资料来源：网络公开资料，赛瑞研究整理内部资料，仅供会员学习使用光刻胶辅助材料行业概况—主要辅助材料  光刻胶的主体成分包括感光化合物（感光树脂、光刻胶树脂）、胶体（聚酯胶和环化橡胶）光刻胶溶剂以及基体材料等。  光刻胶在生产过程中，需要添加各种辅助材料，包含增感剂、光引发剂、感光剂、显影液、蚀刻剂、去胶液等辅助材料。光刻胶材料主体材料辅助材料感活基光光増感蚀去性胶体溶引化感光刻胶稀体材剂