GB/T 40279-2021硅片表面薄膜厚度的测试　光学反射法.pdf

ICS77.040 CCSH21 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT40279 2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法 — Testmethodforthicknessoffilmsonsiliconwafersurface O ticalreflectionmethod p 2021-08-20发布 2022-03-01实施 国家市场监督管理总局 发 布 国家标准化管理委员会 / — GBT40279 2021 前 言 / — 《 : 》 本文件按照 标准化工作导则 第 部分 标准化文件的结构和起草规则 的规定 GBT1.1 2020 1 起草。 本文件由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( / )与全国半导体设备和材料标准 SACTC203 化技术委员会材料分技术委员会( / / )共同提出并归口。 SACTC203SC2 : 、 、 本文件起草单位 有研半导体材料有限公司 山东有研半导体材料有限公司 浙江金瑞泓科技股份 、 、 、 、 有限公司 优尼康科技有限公司 中环领先半导体材料有限公司 浙江海纳半导体有限公司 麦斯克电子 、 ( ) 、 。 材料股份有限公司 翌颖科技 上海 有限公司 开化县检验检测研究院 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 、 本文件主要起草人 徐继平 宁永铎 卢立延 孙燕 张海英 由佰玲 潘金平 李扬 胡晓亮 张雪囡 、 。 楼春兰 盘健冰 Ⅰ / — GBT40279 2021