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泓域咨询/薄膜沉积设备项目投资决策报告
薄膜沉积设备项目
投资决策报告
xx投资管理公司
报告说明
半导体产业的发展衍生出巨大的半导体设备市场,主要包括光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备、离子注入机、测试机、分选机、探针台等设备,属于半导体行业产业链的技术先导者。应用于集成电路领域的设备通常可分为前道工艺设备(晶圆制造)和后道工艺设备(封装测试)两大类。其中,晶圆制造设备的市场规模占集成电路设备整体市场规模的80%以上。在前道晶圆制造中,共有七大工艺步骤,分别为氧化/扩散、光刻、刻蚀、薄膜生长、离子注入、清洗与抛光、金属化,所对应的设备主要包括氧化/扩散设备、光刻设备、刻蚀设备、薄膜沉积设
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