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电子束曝光技术课程1基本理论.pptx

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Electron Beam Lithography 电子束光刻 ——基本理论;? 传统光学曝光技术 ? 电子束曝光技术 ? 离子束曝光技术 ? X射线曝光技术 ? 极紫外曝光技术 ? 纳米压印术;Conclusion on Lithography techniques;? 利用某些高分子聚合物对电子束敏感形成曝光图形;;1. 电子束曝光机;电子束曝光系统分类;电子束曝光系统的重要指标;;;;MEBES4700S;;;;;2. 电子束抗蚀剂;;;负抗蚀剂:入射粒子将聚合物链接起来;;;;抗蚀剂的重要参数;;高对比度;抗蚀剂的分辨率;抗蚀剂的厚度;;;;;多层抗蚀剂工艺;3. 电子束曝光方式;2. 矢量扫描光???扫描;3. 高斯圆电子束Vs.成形电子束;工作方式1 -高斯束、矢量扫描、固定工作台;工作方式2 -高斯束、光栅扫描、移动工作台;工作方式3 -成形束、矢量扫描;4. 电子散射与邻近效应;电子散射能量沉积分布;;;;;;电子散射引起的邻近效应;;怎样对抗邻近效应;;;;6. 电子束曝光技术的应用

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