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自下而上的导向自组装光刻技术
复旦大学微纳系统中心
熊诗圣 2020.12.30 上海
全世界有75亿人口
• 每个DIE有百亿个晶体管
• 每个晶圆片有数百个DIE
人类工业制造的巅峰
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4
7纳米节点生产厂商仅剩三家
英特尔 台积电 三星 格芯
P1276
(CPU),
制 程 N7, N7P, N7+ 7LPE, 7LPP 7LP, 7HP
P1277
(SoC)
量 产 2021 April 2018 April 2019 Cancelled
Lithography EUV DUV ⇒ EUV EUV DUV ⇒ EUV
光 刻
工 艺 Immersion SADP ⇒ SE SE (EUV) SADP ⇒ SE
(EUV) (EUV)
Exposure DP (193i)
DP (193i) DP (193i)
Type Bulk
晶 圆
Size 300 mm
架 构 Type FinFET
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6
IC制造发展路线
7
光刻工艺发展路线
100 nm 30 nm 10 nm 1 nm
纳米材料 高分子聚合物 功能分子 单分子水平
ArF干式光刻 ArF浸没式光刻 EUV光刻 前沿技术
90 nm 32 nm 13 nm Sub-10 nm
8
“自上而下” VS “自下而上”
——光刻
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